關於 Creo Flexible Modeling 陣列中的選項
您可以針對軸、填充、曲線與點陣列設定其他選項。選項為前後關聯感應式，視陣列類型而定。
• 「跟隨軸旋轉」(Follow axis rotation) 核取方塊 - 旋轉位於旋轉平面內的陣列成員，以跟隨軸旋轉。適用於軸陣列。
• 「使用替代原點」(Use alternate origin) - 使用替代原點來表示陣列導引件。
◦ 「使用替代原點」(Use alternate origin) 收集器 - 顯示替代原點。
• 「追隨導線方向」(Follow leader location) 核取方塊 - 使用與陣列導線位移相同的距離從草繪平面位移所有陣列成員。可用於以草繪為基礎的填充陣列與點陣列。
• 「跟隨曲面形狀」(Follow surface shape) 核取方塊 - 放置陣列成員以跟隨所選曲面的形狀。
◦ 「跟隨曲面形狀」(Follow surface shape) 收集器 - 顯示要跟隨之陣列的曲面。
◦ 「追隨曲面方向」(Follow surface direction) 核取方塊 - 定向陣列成員以跟隨曲面方向。
◦ 「間距」(Spacing) - 設定陣列成員之間的間距。
▪ 「如所投影」(As projected) - 將陣列導引件與陣列成員直接投影到曲面上。
▪ 「對應至曲面空間」(Map to Surface Space) - 將陣列導引件直接投影到曲面上。會將剩餘陣列成員從草繪平面對應至曲面空間，以使曲面上的間距與草繪中的間距相符。當草繪或範本使用相等間距時，此選項可產生更均等的成員間距。其對於位於陣列導引件附近的陣列成員效果最佳。它僅適用於實體曲面。
▪ 「對應至曲面 UV 空間」(Map to Surface UV Space) - 將陣列導引件直接投影到曲面上。可根據相對於草繪平面中第一個成員的剩餘陣列成員的 xy 座標來將它們從草繪對應至曲面的 uv 空間。
◦ 「跟隨軸旋轉」(Follow axis rotation) 核取方塊 - 圍繞軸定向陣列成員。適用於軸陣列。
◦ 「追隨曲線方向」(Follow curve direction) 核取方塊 - 定向草繪平面內的陣列成員，以追隨曲線。可用於以草繪為基礎的曲線陣列與點陣列。
◦ 「追隨範本旋轉」(Follow template rotation) 核取方塊 - 沿陣列格點範本定向陣列成員。可在填充陣列中用於 
圓形與 
螺旋格點範本。
圓形與 螺旋格點範本。