コンフリクト

複数の固定寸法や拘束の矛盾した、または余分な条件。拘束や寸法を除去したり修正したりすることでコンフリクトが解決され、意図が伝達されます。

継続モード

複数のエンティティの作成など、複数の操作を連続で実行するスケッチャー環境。次のツールは継続モードで動作します。

拘束

エンティティのジオメトリまたはエンティティ間の関係 (平行や同等半径など) を定義することで、設計意図を伝達する条件。その拘束が適用されるエンティティのとなりに拘束シンボルは表示されます。「固定拘束」、「仮拘束」、「寸法」も参照してください。

作図エンティティ

スケッチャーにのみ表示される要素。フィーチャーレベルの情報を伝達しません。

寸法

エンティティまたはエンティティ間の距離の測定。寸法を使用して設計意図を伝達できます。「固定拘束」、「仮拘束」、「寸法」も参照してください。

エンティティ

断面ジオメトリ (たとえば、線、円弧、円、スプライン、円錐曲線、点、座標系) の要素。断面ジオメトリをスケッチ、分割または交差する場合、あるいは、断面の外側でジオメトリを参照する場合にエンティティを作成します。

ジオメトリエンティティ

部品モードまたはアセンブリモードでフィーチャーレベルの情報を伝達する実際のジオメトリ (直線、カーブ、形状、点、座標系、中心線を含む)。

パラメータ

スケッチャーでの補助数値。

参照エンティティ

部品のエッジなど、断面の外部ジオメトリを参照する 3D スケッチャーで作成された断面要素。これを使用して設計意図を伝達できます。たとえば、部品のエッジを参照するスケッチャーで寸法を作成して、その部品エッジのスケッチ平面への参照エンティティの投影を作成できます。

リレーション

寸法かパラメータ、またはその両方に関連した等式で、設計意図の伝達に使用できるもの。たとえば、ある線の長さを他の線の長さの半分になるよう、リレーションを使用して設定できます。

ラバーバンドモード

ポインタを動かすとエンティティがドラッグされるスケッチャー環境。ほかの操作を行う前に、エンティティのスケッチを終了しなければなりません。

固定拘束または寸法

設計意図を伝達するために作成する固定メジャー。「拘束」、「寸法」も参照してください。

仮拘束または寸法

修正により変更されたスケッチの矛盾を解決する、システムで生成されたメジャー。「拘束」、「寸法」も参照してください。