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Allgemeine Einführung: Bemaßungsmuster
Beim Erzeugen eines Bemaßungsmusters wählen Sie KE-Bemaßungen und geben die inkrementalen Änderungen für diese Bemaßungen, und die Anzahl der Vorkommen des KEs in dem Muster an.
Bemaßungsmuster können aus einem unidirektionalen Muster, wie z.B. ein lineares Muster aus Bohrungen, und aus bidirektionalen Mustern, wie etwa eine rechteckige Anordnung von Bohrungen, bestehen. Mit anderen Worten platzieren bidirektionale Muster Varianten in Zeilen und Spalten. Sie können eine Ebene, eine gerade Kante, eine Bezugsachse oder eine Koordinatensystemachse als eine Bemaßungsreferenz wählen (bei einer Ebene liegt die Richtung senkrecht zur Ebene).
Abhängig davon, welche Bemaßungen als nicht identisch gewählt werden, können Muster linear oder im Winkel angeordnet sein.
Beachten Sie bei der Erzeugung von Bemaßungsmustern folgende Hinweise:
Ein KE kann nur für ein einzelnes Muster als Mustergrundelement verwendet werden. Nachdem das Muster erstellt ist, wird das Grundelement dem Muster eingegliedert und kann nicht mehr als unabhängiges KE auftreten.
Wenn Sie ein Mustergrundelement erzeugen, denken Sie an die Bemaßungen, die Sie eventuell benötigen, um die Lage der Inkremente anzugeben. Beachten Sie stets, dass für Rotationsmuster ein KE eine zugehörige Winkelbemaßung besitzen muss. Für andere Muster sollten Sie ein Mustergrundelement erstellen, das sinnvolle Bemaßungen besitzt, die später dazu verwendet werden können, die Lage und Größe der Inkremente zu steuern.
Eine Winkelbemaßung, die eine Mittellinie eines Skizzen-KE steuert, sollte nicht für die Festlegung einer Winkelreferenz verwendet werden. Verwenden Sie eine asynchron erzeugte Bezugsebene, um eine Winkelbemaßung des KEs einzustellen. Asynchrone Bezugsebenen werden automatisch mit dem KE gruppiert. Anschließend können Sie das Winkelmuster dieser Gruppe erzeugen.
Denken Sie bei der Auswahl des Mustertyps an die zur Regenerierung erforderliche Zeit. Für einfache Muster sollten Sie zur Beschleunigung der Modellregenerierung den Befehl Identisch (Identical) oder den Befehl Variabel (Variable) verwenden.
Wenn Sie erwarten, dass die Anzahl der Varianten sich ändert, verwenden Sie Beziehungen, um die Position von Varianten zu steuern. In diesem Fall wird immer dann, wenn Sie die Anzahl der Varianten ändern, der Abstand gemäß der von Ihnen eingegebenen Formel berechnet.