分成二或多個隔艙的矩形框,這些隔艙中包含幾何特性符號、具有選用修改因子的公差值,以及基準指示 (如有需要)。
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分成二或多個隔艙的矩形框,這些隔艙中包含幾何特性符號、具有選用修改因子的公差值,以及基準指示 (如有需要)。
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分成二或多個隔艙的矩形框,這些隔艙中包含幾何特性符號、具有選用修改因子的公差值,以及基準指示 (如有需要)。
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分成二或多個隔艙的矩形框,這些隔艙中包含幾何特性符號、具有選用修改因子的公差值,以及基準指示 (如有需要)。
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一個圓柱或球面曲面、圓形元素,或一組兩個的相對平行元素或相對平行曲面,每一個都直接與公差尺寸相關聯。
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由本身是大小之線性或角度尺寸定義的幾何形狀。
|
一個圓柱或球面曲面、圓形元素,或一組兩個的相對平行元素或相對平行曲面,每一個都直接與公差尺寸相關聯。
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由本身是大小之線性或角度尺寸定義的幾何形狀。
|
一個圓柱或球面曲面、圓形元素,或一組兩個的相對平行元素或相對平行曲面,每一個都直接與公差尺寸相關聯。
|
由本身是大小之線性或角度尺寸定義的幾何形狀。
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一個圓柱或球面曲面、圓形元素,或一組兩個的相對平行元素或相對平行曲面,每一個都直接與公差尺寸相關聯。
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由本身是大小之線性或角度尺寸定義的幾何形狀。
|
一個項目,或連接在一起的二或多個項目,通常不受限於無破壞或損傷設計使用的拆解。
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一個項目,或連接在一起的二或多個項目,通常不受限於無破壞或損傷設計使用的拆解。
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一個項目,或連接在一起的二或多個項目,通常不受限於無破壞或損傷設計使用的拆解。
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一個項目,或連接在一起的二或多個項目,通常不受限於無破壞或損傷設計使用的拆解。
|
|
一組三個互相垂直的平面,其構成了尺寸和公差的參照框架。
|
這是一個 ASME 辭彙,與 ISO 的詞彙「基準系統」類似。此 ASME 辭彙會在整個 GD&T Advisor 應用程式與文件集中使用,但在 ISO GPS 的上下文中使用時,是指基準系統。
請參閱基準系統。
|
一組三個互相垂直的平面,其構成了尺寸和公差的參照框架。
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這是一個 ASME 辭彙,與 ISO 的詞彙「基準系統」類似。此 ASME 辭彙會在整個 GD&T Advisor 應用程式與文件集中使用,但在 ISO GPS 的上下文中使用時,是指基準系統。
請參閱基準系統。
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一組三個互相垂直的平面,其構成了尺寸和公差的參照框架。
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這是一個 ASME 辭彙,與 ISO 的詞彙「基準系統」類似。此 ASME 辭彙會在整個 GD&T Advisor 應用程式與文件集中使用,但在 ISO GPS 的上下文中使用時,是指基準系統。
請參閱基準系統。
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一組三個互相垂直的平面,其構成了尺寸和公差的參照框架。
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這是一個 ASME 辭彙,與 ISO 的詞彙「基準系統」類似。此 ASME 辭彙會在整個 GD&T Advisor 應用程式與文件集中使用,但在 ISO GPS 的上下文中使用時,是指基準系統。
請參閱基準系統。
|
不會視為同時條件集一部份的幾何公差。
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不會視為同時條件集一部份的幾何公差。
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不會視為同時條件集一部份的幾何公差。
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不會視為同時條件集一部份的幾何公差。
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|
二或多個幾何公差套用為單一陣列或零件條件的情況。同時條件會套用至參照相同基準參照框的方位或輪廓公差。
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|
二或多個幾何公差套用為單一陣列或零件條件的情況。同時條件會套用至參照相同基準參照框的方位或輪廓公差。
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|
二或多個幾何公差套用為單一陣列或零件條件的情況。同時條件會套用至參照相同基準參照框的方位或輪廓公差。
|
|
二或多個幾何公差套用為單一陣列或零件條件的情況。同時條件會套用至參照相同基準參照框的方位或輪廓公差。
|
|
二或多個特徵曲面的所有位置相對或對應元素的中間點都與基準軸或中心平面一致的情況。
|
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二或多個特徵曲面的所有位置相對或對應元素的中間點都與基準軸或中心平面一致的情況。
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二或多個特徵曲面的所有位置相對或對應元素的中間點都與基準軸或中心平面一致的情況。
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二或多個特徵曲面的所有位置相對或對應元素的中間點都與基準軸或中心平面一致的情況。
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|
代表允許特徵與指定尺寸相差之總量的面積或體積。
|
|
代表允許特徵與指定尺寸相差之總量的面積或體積。
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代表允許特徵與指定尺寸相差之總量的面積或體積。
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代表允許特徵與指定尺寸相差之總量的面積或體積。
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以基準特徵符號或基準目標符號識別的特徵。
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用於建立基準的真實 (非理想) 完整特徵
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以基準特徵符號或基準目標符號識別的特徵。
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用於建立基準的真實 (非理想) 完整特徵
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以基準特徵符號或基準目標符號識別的特徵。
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用於建立基準的真實 (非理想) 完整特徵
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以基準特徵符號或基準目標符號識別的特徵。
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用於建立基準的真實 (非理想) 完整特徵
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作為最大材料需求 (MMR) 或最小材料需求 (LMR) 的額外增加項目之大小特徵的其他需求,可指示大小公差依幾何公差與實際幾何偏差之間的差增加。
|
|
作為最大材料需求 (MMR) 或最小材料需求 (LMR) 的額外增加項目之大小特徵的其他需求,可指示大小公差依幾何公差與實際幾何偏差之間的差增加。
|
|
作為最大材料需求 (MMR) 或最小材料需求 (LMR) 的額外增加項目之大小特徵的其他需求,可指示大小公差依幾何公差與實際幾何偏差之間的差增加。
|
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作為最大材料需求 (MMR) 或最小材料需求 (LMR) 的額外增加項目之大小特徵的其他需求,可指示大小公差依幾何公差與實際幾何偏差之間的差增加。
|
|
修改時,會導致 CAD 幾何變更的尺寸。
|
|
修改時,會導致 CAD 幾何變更的尺寸。
|
|
修改時,會導致 CAD 幾何變更的尺寸。
|
|
修改時,會導致 CAD 幾何變更的尺寸。
|
|
個別一般大小特徵的成型受其大小限制控制。
|
|
個別一般大小特徵的成型受其大小限制控制。
|
|
個別一般大小特徵的成型受其大小限制控制。
|
|
個別一般大小特徵的成型受其大小限制控制。
|
|
僅受限於重力之零件的條件。
|
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僅受限於重力之零件的條件。
|
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僅受限於重力之零件的條件。
|
|
僅受限於重力之零件的條件。
|
|
其中所述產品是二或多個項目之組件的模型。
|
其中所述產品是二或多個項目之組件的模型。
|
其中所述產品是二或多個項目之組件的模型。
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其中所述產品是二或多個項目之組件的模型。
|
其中所述產品是二或多個項目之組件的模型。
|
其中所述產品是二或多個項目之組件的模型。
|
其中所述產品是二或多個項目之組件的模型。
|
其中所述產品是二或多個項目之組件的模型。
|
具有某些彈性,且會在指定限制之下套用其某些尺寸與公差 (如註記所指示) 的零件。
|
會變形至在自由狀態下超出指定尺寸與/或幾何公差之程度的零件。
|
具有某些彈性,且會在指定限制之下套用其某些尺寸與公差 (如註記所指示) 的零件。
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會變形至在自由狀態下超出指定尺寸與/或幾何公差之程度的零件。
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具有某些彈性,且會在指定限制之下套用其某些尺寸與公差 (如註記所指示) 的零件。
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會變形至在自由狀態下超出指定尺寸與/或幾何公差之程度的零件。
|
具有某些彈性,且會在指定限制之下套用其某些尺寸與公差 (如註記所指示) 的零件。
|
會變形至在自由狀態下超出指定尺寸與/或幾何公差之程度的零件。
|
分割為包含幾何特性符號的隔艙,且後面加上公差值或描述、修改因子,以及任何適用基準特徵參照的矩形。
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分割為包含幾何特性符號的隔艙,且後面加上公差值或描述、修改因子,以及任何適用基準特徵參照的矩形。
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分割為包含幾何特性符號的隔艙,且後面加上公差值或描述、修改因子,以及任何適用基準特徵參照的矩形。
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分割為包含幾何特性符號的隔艙,且後面加上公差值或描述、修改因子,以及任何適用基準特徵參照的矩形。
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|
包含模型幾何與輔助幾何之資料集的部份。
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包含模型與輔助幾何之資料集的部份。
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包含模型幾何與輔助幾何之資料集的部份。
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包含模型與輔助幾何之資料集的部份。
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包含模型幾何與輔助幾何之資料集的部份。
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包含模型與輔助幾何之資料集的部份。
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包含模型幾何與輔助幾何之資料集的部份。
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包含模型與輔助幾何之資料集的部份。
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包含註釋 (例如尺寸或幾何公差) 之 CAD 模型中的圖元。
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包含註釋 (例如尺寸或幾何公差) 之 CAD 模型中的圖元。
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包含註釋 (例如尺寸或幾何公差) 之 CAD 模型中的圖元。
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包含註釋 (例如尺寸或幾何公差) 之 CAD 模型中的圖元。
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參照:ASME 15.5,4.11.10 段
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參照:ASME 15.5,4.11.10 段
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參照:ASME 15.5,4.11.10 段
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參照:ASME 15.5,4.11.10 段
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參照:ASME Y14.100-2004,3 段
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參照:ASME Y14.100-2004,3 段
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參照:ASME Y14.100-2004,3 段
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參照:ASME Y14.100-2004,3 段
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參照:ASME Y14.100-2004,3 段
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參照:ASME Y14.100-2004,3 段
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參照:ASME Y14.100-2004,3 段
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參照:ASME Y14.100-2004,3 段
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參照:ASME Y14.100-2004,4.26.6 段
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參照:ISO 2768-1,2:1989
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參照:ASME Y14.100-2004,4.26.6 段
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參照:ISO 2768-1,2:1989
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參照:ASME Y14.100-2004,4.26.6 段
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參照:ISO 2768-1,2:1989
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參照:ASME Y14.100-2004,4.26.6 段
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參照:ISO 2768-1,2:1989
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參照:ASME Y14.41,3.3 段
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參照:ISO 10209:2012,9.3 條
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參照:ASME Y14.41,3.3 段
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參照︰無
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參照︰無
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參照︰無
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參照︰無
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參照︰無
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參照︰無
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參照︰無
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參照︰無
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參照︰無
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參照︰無
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參照︰無
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參照︰無
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可從中定義特徵之位置與定向或兩者的點、線、平面或螺旋。
|
|
可從中定義特徵之位置與定向或兩者的點、線、平面或螺旋。
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|
可從中定義特徵之位置與定向或兩者的點、線、平面或螺旋。
|
|
可從中定義特徵之位置與定向或兩者的點、線、平面或螺旋。
|
|
可放大其他同軸孔的圓柱平底孔,通常在需要扣件才能嵌入或低於工件曲面高度時使用。
|
可放大其他同軸孔的圓柱平底孔,通常在需要扣件才能嵌入或低於工件曲面高度時使用。
|
可放大其他同軸孔的圓柱平底孔,通常在需要扣件才能嵌入或低於工件曲面高度時使用。
|
可放大其他同軸孔的圓柱平底孔,通常在需要扣件才能嵌入或低於工件曲面高度時使用。
|
可放大其他同軸孔的圓柱平底孔,通常在需要扣件才能嵌入或低於工件曲面高度時使用。
|
可放大其他同軸孔的圓柱平底孔,通常在需要扣件才能嵌入或低於工件曲面高度時使用。
|
可放大其他同軸孔的圓柱平底孔,通常在需要扣件才能嵌入或低於工件曲面高度時使用。
|
可放大其他同軸孔的圓柱平底孔,通常在需要扣件才能嵌入或低於工件曲面高度時使用。
|
在個別公差方面,適用 RFS,而在個別基準特徵參照方面,適用 RMB,其皆未指定修改符號。
|
|
在個別公差方面,適用 RFS,而在個別基準特徵參照方面,適用 RMB,其皆未指定修改符號。
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在個別公差方面,適用 RFS,而在個別基準特徵參照方面,適用 RMB,其皆未指定修改符號。
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在個別公差方面,適用 RFS,而在個別基準特徵參照方面,適用 RMB,其皆未指定修改符號。
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|
在指示 MMR 或 LMR 的情況下,將兩個獨立的需求 (例如,直徑公差與方位公差) 合併為單一需求,可更精確地模擬工件的屬意功能。
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在指示 MMR 或 LMR 的情況下,將兩個獨立的需求 (例如,直徑公差與方位公差) 合併為單一需求,可更精確地模擬工件的屬意功能。
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|
在指示 MMR 或 LMR 的情況下,將兩個獨立的需求 (例如,直徑公差與方位公差) 合併為單一需求,可更精確地模擬工件的屬意功能。
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|
在指示 MMR 或 LMR 的情況下,將兩個獨立的需求 (例如,直徑公差與方位公差) 合併為單一需求,可更精確地模擬工件的屬意功能。
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在為幾何公差指定 MMC 或 LMC 的情況下,公差中的增加量等於大小特徵違反指定材料條件的量。
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在為幾何公差指定 MMC 或 LMC 的情況下,公差中的增加量等於大小特徵違反指定材料條件的量。
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在為幾何公差指定 MMC 或 LMC 的情況下,公差中的增加量等於大小特徵違反指定材料條件的量。
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在為幾何公差指定 MMC 或 LMC 的情況下,公差中的增加量等於大小特徵違反指定材料條件的量。
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在特徵控制框中跟在基準特徵參照之後的 ▷ 符號,表示基準特徵模擬器的基本位置已經解除鎖定,且基準特徵模擬器能夠在指定幾何公差之內平移,以完全接觸特徵。
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在特徵控制框中跟在基準特徵參照之後的 ▷ 符號,表示基準特徵模擬器的基本位置已經解除鎖定,且基準特徵模擬器能夠在指定幾何公差之內平移,以完全接觸特徵。
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在特徵控制框中跟在基準特徵參照之後的 ▷ 符號,表示基準特徵模擬器的基本位置已經解除鎖定,且基準特徵模擬器能夠在指定幾何公差之內平移,以完全接觸特徵。
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在特徵控制框中跟在基準特徵參照之後的 ▷ 符號,表示基準特徵模擬器的基本位置已經解除鎖定,且基準特徵模擬器能夠在指定幾何公差之內平移,以完全接觸特徵。
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在特徵控制框架中參照基準特徵的順序 (例如,主要、附屬、第三級)。
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在特徵控制框架中參照基準特徵的順序 (例如,主要、附屬、第三級)。
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在特徵控制框架中參照基準特徵的順序 (例如,主要、附屬、第三級)。
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在特徵控制框架中參照基準特徵的順序 (例如,主要、附屬、第三級)。
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在線性大小上由 ISO 公差編碼系統的轉軸與孔公差構成的配合系統。
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在線性大小上由 ISO 公差編碼系統的轉軸與孔公差構成的配合系統。
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在線性大小上由 ISO 公差編碼系統的轉軸與孔公差構成的配合系統。
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在線性大小上由 ISO 公差編碼系統的轉軸與孔公差構成的配合系統。
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基準特徵距離基準特徵模擬器所建立邊界之間的允許轉移/位移。
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基準特徵距離基準特徵模擬器所建立邊界之間的允許轉移/位移。
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基準特徵距離基準特徵模擬器所建立邊界之間的允許轉移/位移。
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基準特徵距離基準特徵模擬器所建立邊界之間的允許轉移/位移。
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大小特徵包含在聲明大小限制 (例如最大孔直徑、最小轉軸直徑) 之內的最小材料量的條件。
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所考慮萃取特徵的狀態,其中大小特徵是特徵材料在任何位置都處於其最小狀況的大小限制,例如最大孔直徑與最小轉軸直徑。
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大小特徵包含在聲明大小限制 (例如最大孔直徑、最小轉軸直徑) 之內的最小材料量的條件。
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所考慮萃取特徵的狀態,其中大小特徵是特徵材料在任何位置都處於其最小狀況的大小限制,例如最大孔直徑與最小轉軸直徑。
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大小特徵包含在聲明大小限制 (例如最大孔直徑、最小轉軸直徑) 之內的最小材料量的條件。
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所考慮萃取特徵的狀態,其中大小特徵是特徵材料在任何位置都處於其最小狀況的大小限制,例如最大孔直徑與最小轉軸直徑。
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大小特徵包含在聲明大小限制 (例如最大孔直徑、最小轉軸直徑) 之內的最小材料量的條件。
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所考慮萃取特徵的狀態,其中大小特徵是特徵材料在任何位置都處於其最小狀況的大小限制,例如最大孔直徑與最小轉軸直徑。
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大小特徵包含在聲明大小限制 (例如最小孔直徑、最大轉軸直徑) 之內的最大材料量的條件。
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所考慮萃取特徵的狀態,其中大小特徵是特徵材料在任何位置都處於其最大狀況的大小限制,例如最小孔直徑與最大轉軸直徑。
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大小特徵包含在聲明大小限制 (例如最小孔直徑、最大轉軸直徑) 之內的最大材料量的條件。
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所考慮萃取特徵的狀態,其中大小特徵是特徵材料在任何位置都處於其最大狀況的大小限制,例如最小孔直徑與最大轉軸直徑。
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大小特徵包含在聲明大小限制 (例如最小孔直徑、最大轉軸直徑) 之內的最大材料量的條件。
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所考慮萃取特徵的狀態,其中大小特徵是特徵材料在任何位置都處於其最大狀況的大小限制,例如最小孔直徑與最大轉軸直徑。
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大小特徵包含在聲明大小限制 (例如最小孔直徑、最大轉軸直徑) 之內的最大材料量的條件。
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所考慮萃取特徵的狀態,其中大小特徵是特徵材料在任何位置都處於其最大狀況的大小限制,例如最小孔直徑與最大轉軸直徑。
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大小特徵的需求,會以等於 LMVS 的指定本質特性 (尺寸) 值定義相同類型與完美成型的幾何特徵,其會限制材料內部的非理想特徵。
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大小特徵的需求,會以等於 LMVS 的指定本質特性 (尺寸) 值定義相同類型與完美成型的幾何特徵,其會限制材料內部的非理想特徵。
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大小特徵的需求,會以等於 LMVS 的指定本質特性 (尺寸) 值定義相同類型與完美成型的幾何特徵,其會限制材料內部的非理想特徵。
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大小特徵的需求,會以等於 LMVS 的指定本質特性 (尺寸) 值定義相同類型與完美成型的幾何特徵,其會限制材料內部的非理想特徵。
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大小特徵的需求,會以等於 MMVS 的指定本質特性 (尺寸) 值定義相同類型與完美成型的幾何特徵,其會限制材料內部的非理想特徵。
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大小特徵的需求,會以等於 MMVS 的指定本質特性 (尺寸) 值定義相同類型與完美成型的幾何特徵,其會限制材料內部的非理想特徵。
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大小特徵的需求,會以等於 MMVS 的指定本質特性 (尺寸) 值定義相同類型與完美成型的幾何特徵,其會限制材料內部的非理想特徵。
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大小特徵的需求,會以等於 MMVS 的指定本質特性 (尺寸) 值定義相同類型與完美成型的幾何特徵,其會限制材料內部的非理想特徵。
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套用位置幾何公差且依下列其中一種方法編組的二或多個特徵或大小特徵:nX、n 同軸孔、遍及、A↔B、n 曲面、同步條件或已指示。
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套用位置幾何公差且依例如 nx 之類的標記法編組的二或多個特徵或大小特徵。
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套用位置幾何公差且依下列其中一種方法編組的二或多個特徵或大小特徵:nX、n 同軸孔、遍及、A↔B、n 曲面、同步條件或已指示。
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套用位置幾何公差且依例如 nx 之類的標記法編組的二或多個特徵或大小特徵。
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套用位置幾何公差且依下列其中一種方法編組的二或多個特徵或大小特徵:nX、n 同軸孔、遍及、A↔B、n 曲面、同步條件或已指示。
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套用位置幾何公差且依例如 nx 之類的標記法編組的二或多個特徵或大小特徵。
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套用位置幾何公差且依下列其中一種方法編組的二或多個特徵或大小特徵:nX、n 同軸孔、遍及、A↔B、n 曲面、同步條件或已指示。
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套用位置幾何公差且依例如 nx 之類的標記法編組的二或多個特徵或大小特徵。
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定義 CAD 特徵之大小、定向或位置的尺寸。
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定義 CAD 特徵之大小、定向或位置的尺寸。
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定義 CAD 特徵之大小、定向或位置的尺寸。
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定義 CAD 特徵之大小、定向或位置的尺寸。
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定義一組有限數目的點的幾何特徵 (適用於完整或衍生的特徵)。
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定義一組有限數目的點的幾何特徵 (適用於完整或衍生的特徵)。
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定義一組有限數目的點的幾何特徵 (適用於完整或衍生的特徵)。
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定義一組有限數目的點的幾何特徵 (適用於完整或衍生的特徵)。
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定義區域內大小特徵的中心、軸或中心平面允許與真實 (理論上精確) 的方位不同,或在 MMC 或 LMC 的基礎上指定的情況下,曲面或所考慮大小特徵之曲面不得違反位於真實方位之邊界的幾何公差。
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指定特徵的萃取中心點、中間線、中間平面或曲面皆應包含在理論精確位置中之指定區域內的幾何公差。
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定義區域內大小特徵的中心、軸或中心平面允許與真實 (理論上精確) 的方位不同,或在 MMC 或 LMC 的基礎上指定的情況下,曲面或所考慮大小特徵之曲面不得違反位於真實方位之邊界的幾何公差。
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指定特徵的萃取中心點、中間線、中間平面或曲面皆應包含在理論精確位置中之指定區域內的幾何公差。
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定義區域內大小特徵的中心、軸或中心平面允許與真實 (理論上精確) 的方位不同,或在 MMC 或 LMC 的基礎上指定的情況下,曲面或所考慮大小特徵之曲面不得違反位於真實方位之邊界的幾何公差。
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指定特徵的萃取中心點、中間線、中間平面或曲面皆應包含在理論精確位置中之指定區域內的幾何公差。
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定義區域內大小特徵的中心、軸或中心平面允許與真實 (理論上精確) 的方位不同,或在 MMC 或 LMC 的基礎上指定的情況下,曲面或所考慮大小特徵之曲面不得違反位於真實方位之邊界的幾何公差。
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指定特徵的萃取中心點、中間線、中間平面或曲面皆應包含在理論精確位置中之指定區域內的幾何公差。
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定義及傳達工程公差的系統。它會在工程圖與 CAD 模型中使用符號語言來明確描述公稱幾何及其允許的變體。
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定義及傳達工程公差的系統。它會在工程圖與 CAD 模型中使用符號語言來明確描述公稱幾何及其允許的變體。
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定義及傳達工程公差的系統。它會在工程圖與 CAD 模型中使用符號語言來明確描述公稱幾何及其允許的變體。
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定義及傳達工程公差的系統。它會在工程圖與 CAD 模型中使用符號語言來明確描述公稱幾何及其允許的變體。
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定義在相對於真實輪廓的特徵的每個線元素上之二維公差帶的幾何公差。
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定義在相對於真實輪廓的特徵的每個線元素上之二維公差帶的幾何公差。
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定義在相對於真實輪廓的特徵的每個線元素上之二維公差帶的幾何公差。
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定義在相對於真實輪廓的特徵的每個線元素上之二維公差帶的幾何公差。
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定義沿與真實輪廓相對之特徵的長度與寬度 (或圓周) 延伸之三維公差帶的幾何公差。
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定義沿與真實輪廓相對之特徵的長度與寬度 (或圓周) 延伸之三維公差帶的幾何公差。
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定義沿與真實輪廓相對之特徵的長度與寬度 (或圓周) 延伸之三維公差帶的幾何公差。
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定義沿與真實輪廓相對之特徵的長度與寬度 (或圓周) 延伸之三維公差帶的幾何公差。
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定義特徵最大材料條件的尺寸。
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定義特徵最大材料條件的尺寸。
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定義特徵最大材料條件的尺寸。
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定義特徵最大材料條件的尺寸。
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定義特徵最小材料條件的尺寸。
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定義特徵最小材料條件的尺寸。
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定義特徵最小材料條件的尺寸。
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定義特徵最小材料條件的尺寸。
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實體 (真實) 零件。
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實體 (真實) 零件。
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實體 (真實) 零件。
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實體 (真實) 零件。
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對所有曲面元素提供控制的幾何公差。當零件繞基準軸旋轉時,公差會同時套用至所有圓與輪廓量測方位。
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指定萃取曲面應包含在以下項目之間的幾何公差 …
• 半徑的差異等於指示公差值且其軸與基準軸重合的兩個同軸圓柱體。
• 由等於指示公差值的距離分隔開來且與基準軸垂直的兩個平行平面。
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對所有曲面元素提供控制的幾何公差。當零件繞基準軸旋轉時,公差會同時套用至所有圓與輪廓量測方位。
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指定萃取曲面應包含在以下項目之間的幾何公差 …
• 半徑的差異等於指示公差值且其軸與基準軸重合的兩個同軸圓柱體。
• 由等於指示公差值的距離分隔開來且與基準軸垂直的兩個平行平面。
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對所有曲面元素提供控制的幾何公差。當零件繞基準軸旋轉時,公差會同時套用至所有圓與輪廓量測方位。
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指定萃取曲面應包含在以下項目之間的幾何公差 …
• 半徑的差異等於指示公差值且其軸與基準軸重合的兩個同軸圓柱體。
• 由等於指示公差值的距離分隔開來且與基準軸垂直的兩個平行平面。
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對所有曲面元素提供控制的幾何公差。當零件繞基準軸旋轉時,公差會同時套用至所有圓與輪廓量測方位。
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指定萃取曲面應包含在以下項目之間的幾何公差 …
• 半徑的差異等於指示公差值且其軸與基準軸重合的兩個同軸圓柱體。
• 由等於指示公差值的距離分隔開來且與基準軸垂直的兩個平行平面。
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尺寸的聲明值。
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尺寸的聲明值。
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尺寸的聲明值。
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尺寸的聲明值。
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屬於大小特徵的兩個相對曲面、線元素或點之間的尺寸。
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屬於大小特徵的兩個相對曲面、線元素或點之間的尺寸。
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屬於大小特徵的兩個相對曲面、線元素或點之間的尺寸。
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屬於大小特徵的兩個相對曲面、線元素或點之間的尺寸。
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屬於大小特徵的兩個相對曲面、線元素或點之間的尺寸。
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屬於大小特徵的兩個相對曲面、線元素或點之間的尺寸。
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屬於大小特徵的兩個相對曲面、線元素或點之間的尺寸。
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屬於大小特徵的兩個相對曲面、線元素或點之間的尺寸。
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屬於工件真實曲面或模型曲面的幾何特徵。
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屬於工件真實曲面或模型曲面的幾何特徵。
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屬於工件真實曲面或模型曲面的幾何特徵。
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屬於工件真實曲面或模型曲面的幾何特徵。
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幾何公差,可控制要在任何橫截面上,於圓形公差帶之內,置中於基準軸之特徵的中心點。
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幾何公差,可控制要在任何橫截面上,於圓形公差帶之內,置中於基準軸之特徵的中心點。
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幾何公差,可控制要在任何橫截面上,於圓形公差帶之內,置中於基準軸之特徵的中心點。
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幾何公差,可控制要在任何橫截面上,於圓形公差帶之內,置中於基準軸之特徵的中心點。
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幾何公差,可控制要在圓柱公差帶之內,置中於基準軸之特徵的中間線。
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幾何公差,可控制要在圓柱公差帶之內,置中於基準軸之特徵的中間線。
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幾何公差,可控制要在圓柱公差帶之內,置中於基準軸之特徵的中間線。
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幾何公差,可控制要在圓柱公差帶之內,置中於基準軸之特徵的中間線。
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從二或多個同時考量的基準特徵建立的基準。
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從二或多個同時考量的基準特徵建立的基準。
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從二或多個同時考量的基準特徵建立的基準。
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從二或多個同時考量的基準特徵建立的基準。
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從二或多個同時考量的基準特徵建立的基準。
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從二或多個同時考量的基準特徵建立的基準。
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從二或多個同時考量的基準特徵建立的基準。
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從二或多個同時考量的基準特徵建立的基準。
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從二或多個基準特徵中以特定順序建立的一組二或多個狀況特徵。
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從二或多個基準特徵中以特定順序建立的一組二或多個狀況特徵。
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從二或多個基準特徵中以特定順序建立的一組二或多個狀況特徵。
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從二或多個基準特徵中以特定順序建立的一組二或多個狀況特徵。
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從基準特徵建立之基準特徵模擬器的平面
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理論上是精確平面的基準。
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從基準特徵建立之基準特徵模擬器的平面
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理論上是精確平面的基準。
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從基準特徵建立之基準特徵模擬器的平面
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理論上是精確平面的基準。
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從基準特徵建立之基準特徵模擬器的平面
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理論上是精確平面的基準。
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從基準特徵建立之基準特徵模擬器的軸。
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理論上是精確直線的基準。
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從基準特徵建立之基準特徵模擬器的軸。
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理論上是精確直線的基準。
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從基準特徵建立之基準特徵模擬器的軸。
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理論上是精確直線的基準。
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從基準特徵建立之基準特徵模擬器的軸。
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理論上是精確直線的基準。
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所述產品為單一項目的模型。
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所述產品為單一項目的模型。
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所述產品為單一項目的模型。
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所述產品為單一項目的模型。
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投影到設計模型曲面之上的公差帶。
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置於公差特徵範圍之外的公差帶。
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投影到設計模型曲面之上的公差帶。
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置於公差特徵範圍之外的公差帶。
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投影到設計模型曲面之上的公差帶。
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置於公差特徵範圍之外的公差帶。
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投影到設計模型曲面之上的公差帶。
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置於公差特徵範圍之外的公差帶。
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指定以下情況的幾何公差...
• 任何萃取直線皆應包含在由指定公差值分隔開來的兩條平行直線之間
• 圓柱曲面的萃取中間線應包含在直徑等於指定公差值的圓柱區域之內
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指定以下情況的幾何公差...
• 任何萃取直線皆應包含在由指定公差值分隔開來的兩條平行直線之間
• 圓柱曲面的萃取中間線應包含在直徑等於指定公差值的圓柱區域之內
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指定以下情況的幾何公差...
• 任何萃取直線皆應包含在由指定公差值分隔開來的兩條平行直線之間
• 圓柱曲面的萃取中間線應包含在直徑等於指定公差值的圓柱區域之內
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指定以下情況的幾何公差...
• 任何萃取直線皆應包含在由指定公差值分隔開來的兩條平行直線之間
• 圓柱曲面的萃取中間線應包含在直徑等於指定公差值的圓柱區域之內
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指定在任何橫截面中萃取的圓周線皆應包含在兩個半徑不同之共面同心圓之間,且半徑的差異等於所指示公差值的幾何公差。
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指定在任何橫截面中萃取的圓周線皆應包含在兩個半徑不同之共面同心圓之間,且半徑的差異等於所指示公差值的幾何公差。
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指定在任何橫截面中萃取的圓周線皆應包含在兩個半徑不同之共面同心圓之間,且半徑的差異等於所指示公差值的幾何公差。
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指定在任何橫截面中萃取的圓周線皆應包含在兩個半徑不同之共面同心圓之間,且半徑的差異等於所指示公差值的幾何公差。
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指定在每個截面中,萃取的輪廓應包含在等於指示公差之直徑的等距直線包絡圓之間,其中心位於具有理論上精確幾何成型的線上。
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指定在每個截面中,萃取的輪廓應包含在等於指示公差之直徑的等距直線包絡圓之間,其中心位於具有理論上精確幾何成型的線上。
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指定在每個截面中,萃取的輪廓應包含在等於指示公差之直徑的等距直線包絡圓之間,其中心位於具有理論上精確幾何成型的線上。
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指定在每個截面中,萃取的輪廓應包含在等於指示公差之直徑的等距直線包絡圓之間,其中心位於具有理論上精確幾何成型的線上。
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指定尺寸的總量允許改變。公差是最大與最小限制之間的差異。
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指定尺寸的總量允許改變。
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指定尺寸的總量允許改變。公差是最大與最小限制之間的差異。
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指定尺寸的總量允許改變。
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指定尺寸的總量允許改變。公差是最大與最小限制之間的差異。
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指定尺寸的總量允許改變。
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指定尺寸的總量允許改變。公差是最大與最小限制之間的差異。
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指定尺寸的總量允許改變。
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指定最大與最小大小。
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指定最大與最小大小。
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指定最大與最小大小。
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指定最大與最小大小。
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指定由兩個平行平面定義之公差帶的幾何公差,曲面或衍生的中間平面位於其中。
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指定特徵的萃取 (實際) 曲面應包含在由所指示公差值分隔開來之兩個平行平面之間的幾何公差。
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指定由兩個平行平面定義之公差帶的幾何公差,曲面或衍生的中間平面位於其中。
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指定特徵的萃取 (實際) 曲面應包含在由所指示公差值分隔開來之兩個平行平面之間的幾何公差。
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指定由兩個平行平面定義之公差帶的幾何公差,曲面或衍生的中間平面位於其中。
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指定特徵的萃取 (實際) 曲面應包含在由所指示公差值分隔開來之兩個平行平面之間的幾何公差。
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指定由兩個平行平面定義之公差帶的幾何公差,曲面或衍生的中間平面位於其中。
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指定特徵的萃取 (實際) 曲面應包含在由所指示公差值分隔開來之兩個平行平面之間的幾何公差。
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指定給零件,以便可從模型或壓鑄模中撤除的錐度。
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指定給零件,以便可從模型或壓鑄模中撤除的錐度。
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指定給零件,以便可從模型或壓鑄模中撤除的錐度。
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指定給零件,以便可從模型或壓鑄模中撤除的錐度。
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指定萃取 (實際) 曲面、線、中間線或中間平面皆應包含在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (平行於基準軸或基準平面) 之間的幾何公差。
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指定萃取 (實際) 曲面、線、中間線或中間平面皆應包含在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (平行於基準軸或基準平面) 之間的幾何公差。
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指定萃取 (實際) 曲面、線、中間線或中間平面皆應包含在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (平行於基準軸或基準平面) 之間的幾何公差。
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指定萃取 (實際) 曲面、線、中間線或中間平面皆應包含在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (平行於基準軸或基準平面) 之間的幾何公差。
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指定萃取中間曲面應限制在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (繞基準平面對稱存在) 之間的幾何公差。
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指定萃取中間曲面應限制在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (繞基準平面對稱存在) 之間的幾何公差。
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指定萃取中間曲面應限制在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (繞基準平面對稱存在) 之間的幾何公差。
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指定萃取中間曲面應限制在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (繞基準平面對稱存在) 之間的幾何公差。
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指定萃取特徵應包含在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (垂直於基準軸或基準平面) 之間的幾何公差。
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指定萃取特徵應包含在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (垂直於基準軸或基準平面) 之間的幾何公差。
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指定萃取特徵應包含在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (垂直於基準軸或基準平面) 之間的幾何公差。
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指定萃取特徵應包含在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (垂直於基準軸或基準平面) 之間的幾何公差。
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指定萃取的圓柱曲面應包含在兩個同軸圓柱之間,且半徑的差異等於所指示公差值的幾何公差。
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指定萃取的圓柱曲面應包含在兩個同軸圓柱之間,且半徑的差異等於所指示公差值的幾何公差。
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指定萃取的圓柱曲面應包含在兩個同軸圓柱之間,且半徑的差異等於所指示公差值的幾何公差。
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指定萃取的圓柱曲面應包含在兩個同軸圓柱之間,且半徑的差異等於所指示公差值的幾何公差。
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指定萃取的曲面應包含在等於指示公差之直徑的等距包絡球面之間,其中心位於具有理論上精確幾何成型的曲面上。
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指定萃取的曲面應包含在等於指示公差之直徑的等距包絡球面之間,其中心位於具有理論上精確幾何成型的曲面上。
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指定萃取的曲面應包含在等於指示公差之直徑的等距包絡球面之間,其中心位於具有理論上精確幾何成型的曲面上。
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指定萃取的曲面應包含在等於指示公差之直徑的等距包絡球面之間,其中心位於具有理論上精確幾何成型的曲面上。
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指相對於特徵大小限制 (例如,RFS、MMC 或 LMC) 的特徵大小。
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指相對於特徵大小限制 (例如,RFS、MMC 或 LMC) 的特徵大小。
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指相對於特徵大小限制 (例如,RFS、MMC 或 LMC) 的特徵大小。
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指相對於特徵大小限制 (例如,RFS、MMC 或 LMC) 的特徵大小。
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指示單邊或不平均處理之輪廓公差的符號。
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指示單邊或不平均處理之輪廓公差的符號。
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指示單邊或不平均處理之輪廓公差的符號。
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指示單邊或不平均處理之輪廓公差的符號。
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指示基準特徵模擬器從 MMB 前進到 LMB,直到其與特徵的極限達到最大接觸為止。
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指示基準特徵模擬器從 MMB 前進到 LMB,直到其與特徵的極限達到最大接觸為止。
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指示基準特徵模擬器從 MMB 前進到 LMB,直到其與特徵的極限達到最大接觸為止。
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指示基準特徵模擬器從 MMB 前進到 LMB,直到其與特徵的極限達到最大接觸為止。
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指示套用指定公差值的材料條件 (例如,RFS、MMC 或 LMC) 的符號。
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指示套用指定公差值的材料條件 (例如,RFS、MMC 或 LMC) 的符號。
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指示套用指定公差值的材料條件 (例如,RFS、MMC 或 LMC) 的符號。
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指示套用指定公差值的材料條件 (例如,RFS、MMC 或 LMC) 的符號。
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指示幾何公差僅會套用至公差曲面之相切平面的符號。
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指示幾何公差僅會套用至公差曲面之相切平面的符號。
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指示幾何公差僅會套用至公差曲面之相切平面的符號。
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指示幾何公差僅會套用至公差曲面之相切平面的符號。
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指示幾何特徵會在大小特徵之實際貼合包絡的任何大小增量時套用。
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大小特徵的大小尺寸與幾何公差獨立套用的情況。
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指示幾何特徵會在大小特徵之實際貼合包絡的任何大小增量時套用。
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大小特徵的大小尺寸與幾何公差獨立套用的情況。
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指示幾何特徵會在大小特徵之實際貼合包絡的任何大小增量時套用。
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大小特徵的大小尺寸與幾何公差獨立套用的情況。
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指示幾何特徵會在大小特徵之實際貼合包絡的任何大小增量時套用。
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大小特徵的大小尺寸與幾何公差獨立套用的情況。
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指示幾何特性的符號方法;可用來指定幾何公差的控制類型。
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代表幾何特性的符號。
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指示幾何特性的符號方法;可用來指定幾何公差的控制類型。
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代表幾何特性的符號。
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指示幾何特性的符號方法;可用來指定幾何公差的控制類型。
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代表幾何特性的符號。
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指示幾何特性的符號方法;可用來指定幾何公差的控制類型。
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代表幾何特性的符號。
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指示理論上精確之位置、定向或輪廓的尺寸。
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指示理論上精確之位置、定向或輪廓的尺寸。
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指示理論上精確之位置、定向或輪廓的尺寸。
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指示理論上精確之位置、定向或輪廓的尺寸。
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指示要模擬基準特徵之所在材料邊界的符號。
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指示要模擬基準特徵之所在材料邊界的符號。
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指示要模擬基準特徵之所在材料邊界的符號。
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指示要模擬基準特徵之所在材料邊界的符號。
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控制特徵之成型 (例如直線度、平坦度、真圓度與圓柱度) 的幾何公差。
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僅控制特徵之成型偏差的幾何公差。
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控制特徵之成型 (例如直線度、平坦度、真圓度與圓柱度) 的幾何公差。
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僅控制特徵之成型偏差的幾何公差。
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控制特徵之成型 (例如直線度、平坦度、真圓度與圓柱度) 的幾何公差。
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僅控制特徵之成型偏差的幾何公差。
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控制特徵之成型 (例如直線度、平坦度、真圓度與圓柱度) 的幾何公差。
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僅控制特徵之成型偏差的幾何公差。
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控制相對於另一個特徵或基準參照框架之特徵位置的幾何公差。
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控制相對於另一個特徵或基準參照框架之特徵位置的幾何公差。
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控制相對於另一個特徵或基準參照框架之特徵位置的幾何公差。
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控制相對於另一個特徵或基準參照框架之特徵位置的幾何公差。
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控制角度關係的幾何公差。
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控制特徵之定向與成型偏差的幾何公差。
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控制角度關係的幾何公差。
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控制特徵之定向與成型偏差的幾何公差。
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控制角度關係的幾何公差。
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控制特徵之定向與成型偏差的幾何公差。
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控制角度關係的幾何公差。
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控制特徵之定向與成型偏差的幾何公差。
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描述產品之設計模型、註釋與屬性的組合。
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描述產品之設計模型、註釋與屬性的組合。
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描述產品之設計模型、註釋與屬性的組合。
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描述產品之設計模型、註釋與屬性的組合。
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描述產品之設計模型、註釋與屬性的組合。
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描述產品之設計模型、註釋與屬性的組合。
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描述產品之設計模型、註釋與屬性的組合。
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描述產品之設計模型、註釋與屬性的組合。
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提供圓形曲面元素控制的幾何公差。公差會獨立套用至每個圓形量測方位,因為零件會繞模擬的基準軸旋轉曲面的完整角度範圍。
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幾何公差,可指定...
• 垂直於基準軸之任何橫截面平面中的萃取線應包含在兩個平面同心圓之間,這兩者的半徑不同,其差距等於指示的公差值
• 其軸與基準軸重合之任何圓柱橫截面中的萃取線應包含在相等大小的兩個圓之間,這兩者由等於指示公差值的距離分隔開來
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提供圓形曲面元素控制的幾何公差。公差會獨立套用至每個圓形量測方位,因為零件會繞模擬的基準軸旋轉曲面的完整角度範圍。
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幾何公差,可指定...
• 垂直於基準軸之任何橫截面平面中的萃取線應包含在兩個平面同心圓之間,這兩者的半徑不同,其差距等於指示的公差值
• 其軸與基準軸重合之任何圓柱橫截面中的萃取線應包含在相等大小的兩個圓之間,這兩者由等於指示公差值的距離分隔開來
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提供圓形曲面元素控制的幾何公差。公差會獨立套用至每個圓形量測方位,因為零件會繞模擬的基準軸旋轉曲面的完整角度範圍。
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幾何公差,可指定...
• 垂直於基準軸之任何橫截面平面中的萃取線應包含在兩個平面同心圓之間,這兩者的半徑不同,其差距等於指示的公差值
• 其軸與基準軸重合之任何圓柱橫截面中的萃取線應包含在相等大小的兩個圓之間,這兩者由等於指示公差值的距離分隔開來
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提供圓形曲面元素控制的幾何公差。公差會獨立套用至每個圓形量測方位,因為零件會繞模擬的基準軸旋轉曲面的完整角度範圍。
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幾何公差,可指定...
• 垂直於基準軸之任何橫截面平面中的萃取線應包含在兩個平面同心圓之間,這兩者的半徑不同,其差距等於指示的公差值
• 其軸與基準軸重合之任何圓柱橫截面中的萃取線應包含在相等大小的兩個圓之間,這兩者由等於指示公差值的距離分隔開來
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新增至陣列或模具幾何特徵的角度,用來確保能夠從模具中輕鬆移除陣列或鑄模零件,或改善產品品質。
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新增至陣列或模具幾何特徵的角度,用來確保能夠從模具中輕鬆移除陣列或鑄模零件,或改善產品品質。
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新增至陣列或模具幾何特徵的角度,用來確保能夠從模具中輕鬆移除陣列或鑄模零件,或改善產品品質。
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新增至陣列或模具幾何特徵的角度,用來確保能夠從模具中輕鬆移除陣列或鑄模零件,或改善產品品質。
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施力到零件上以模擬導致零件從其自由狀態情況扭曲之可能狀況的組件或功能條件。
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於量測期間施於工件,可能導致幾何扭曲的力。
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施力到零件上以模擬導致零件從其自由狀態情況扭曲之可能狀況的組件或功能條件。
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於量測期間施於工件,可能導致幾何扭曲的力。
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施力到零件上以模擬導致零件從其自由狀態情況扭曲之可能狀況的組件或功能條件。
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於量測期間施於工件,可能導致幾何扭曲的力。
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施力到零件上以模擬導致零件從其自由狀態情況扭曲之可能狀況的組件或功能條件。
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於量測期間施於工件,可能導致幾何扭曲的力。
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旋轉曲面上所有直徑相對的中間點 (或二或多個半徑相對特徵之位置對應元素的中間點) 與基準軸 (或中心點) 一致的情況。
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旋轉曲面上所有直徑相對的中間點 (或二或多個半徑相對特徵之位置對應元素的中間點) 與基準軸 (或中心點) 一致的情況。
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旋轉曲面上所有直徑相對的中間點 (或二或多個半徑相對特徵之位置對應元素的中間點) 與基準軸 (或中心點) 一致的情況。
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旋轉曲面上所有直徑相對的中間點 (或二或多個半徑相對特徵之位置對應元素的中間點) 與基準軸 (或中心點) 一致的情況。
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旋轉曲面中的所有曲面點與共用軸之間都等距的情況。
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旋轉曲面中的所有曲面點與共用軸之間都等距的情況。
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旋轉曲面中的所有曲面點與共用軸之間都等距的情況。
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旋轉曲面中的所有曲面點與共用軸之間都等距的情況。
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曲面、特徵的中心平面或特徵在與基準平面或基準軸之間成直角的軸的條件。
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曲面、特徵的中心平面或特徵在與基準平面或基準軸之間成直角的軸的條件。
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曲面、特徵的中心平面或特徵在與基準平面或基準軸之間成直角的軸的條件。
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曲面、特徵的中心平面或特徵在與基準平面或基準軸之間成直角的軸的條件。
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曲面或特徵中心平面的條件,所有點與基準平面之間皆等距;或特徵軸的條件,沿其長度,與一或多個基準平面或基準軸之間皆等距。
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曲面或特徵中心平面的條件,所有點與基準平面之間皆等距;或特徵軸的條件,沿其長度,與一或多個基準平面或基準軸之間皆等距。
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曲面或特徵中心平面的條件,所有點與基準平面之間皆等距;或特徵軸的條件,沿其長度,與一或多個基準平面或基準軸之間皆等距。
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曲面或特徵中心平面的條件,所有點與基準平面之間皆等距;或特徵軸的條件,沿其長度,與一或多個基準平面或基準軸之間皆等距。
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曲面或衍生中間平面在一個平面中具有所有元素的情況。
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曲面或衍生中間平面在一個平面中具有所有元素的情況。
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曲面或衍生中間平面在一個平面中具有所有元素的情況。
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曲面或衍生中間平面在一個平面中具有所有元素的情況。
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曲面的元素,或衍生的中間線是直線的情況。
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曲面的元素,或衍生的中間線是直線的情況。
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曲面的元素,或衍生的中間線是直線的情況。
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曲面的元素,或衍生的中間線是直線的情況。
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曲面的條件,其中,
• 針對球面以外的特徵,與垂直於軸或骨架 (曲線) 的平面相交之曲面的所有點與該軸或骨架之間都是等距的
• 針對球面,與穿過共用中心的任何平面相交的曲面之所有點與該中心之間都是等距的
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曲面的條件,其中,
• 針對球面以外的特徵,與垂直於軸或骨架 (曲線) 的平面相交之曲面的所有點與該軸或骨架之間都是等距的
• 針對球面,與穿過共用中心的任何平面相交的曲面之所有點與該中心之間都是等距的
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曲面的條件,其中,
• 針對球面以外的特徵,與垂直於軸或骨架 (曲線) 的平面相交之曲面的所有點與該軸或骨架之間都是等距的
• 針對球面,與穿過共用中心的任何平面相交的曲面之所有點與該中心之間都是等距的
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曲面的條件,其中,
• 針對球面以外的特徵,與垂直於軸或骨架 (曲線) 的平面相交之曲面的所有點與該軸或骨架之間都是等距的
• 針對球面,與穿過共用中心的任何平面相交的曲面之所有點與該中心之間都是等距的
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曲面的輪廓,由一或多個特徵,或一或多個特徵的二維元素構成的形狀。
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曲面的輪廓,由一或多個特徵,或一或多個特徵的二維元素構成的形狀。
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曲面的輪廓,由一或多個特徵,或一或多個特徵的二維元素構成的形狀。
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曲面的輪廓,由一或多個特徵,或一或多個特徵的二維元素構成的形狀。
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有兩種類型的基準特徵模擬器︰
• 理論︰用來從指定基準特徵建立基準之理論上完美的邊界。
• 實際︰用來從指定基準特徵建立模擬基準的實體邊界。
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有兩種類型的基準特徵模擬器︰
• 理論︰用來從指定基準特徵建立基準之理論上完美的邊界。
• 實際︰用來從指定基準特徵建立模擬基準的實體邊界。
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有兩種類型的基準特徵模擬器︰
• 理論︰用來從指定基準特徵建立基準之理論上完美的邊界。
• 實際︰用來從指定基準特徵建立模擬基準的實體邊界。
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有兩種類型的基準特徵模擬器︰
• 理論︰用來從指定基準特徵建立基準之理論上完美的邊界。
• 實際︰用來從指定基準特徵建立模擬基準的實體邊界。
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根據合理統計資料 (例如組件公差等於個別公差平方總和的平方根) 將公差指派給組件的相關元件。
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根據合理統計資料 (例如組件公差等於個別公差平方總和的平方根) 將公差指派給組件的相關元件。
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根據合理統計資料 (例如組件公差等於個別公差平方總和的平方根) 將公差指派給組件的相關元件。
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根據合理統計資料 (例如組件公差等於個別公差平方總和的平方根) 將公差指派給組件的相關元件。
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模型的主要基準參照框架。它通常會在組件中定向及定位模型。
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模型的主要基準參照框架。它通常會在組件中定向及定位模型。
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模型的主要基準參照框架。它通常會在組件中定向及定位模型。
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模型的主要基準參照框架。它通常會在組件中定向及定位模型。
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決定產品需求中公差累積效果的計算。
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決定產品需求中公差累積效果的計算。
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決定產品需求中公差累積效果的計算。
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決定產品需求中公差累積效果的計算。
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沒有施力之零件的條件。
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沒有施力之零件的條件。
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沒有施力之零件的條件。
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沒有施力之零件的條件。
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無需任何手動或外部操作即可見的尺寸、公差、註記、文字或符號。
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無需任何手動或外部操作即可見的尺寸、公差、註記、文字或符號。
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無需任何手動或外部操作即可見的尺寸、公差、註記、文字或符號。
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無需任何手動或外部操作即可見的尺寸、公差、註記、文字或符號。
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無需任何手動或外部操作即可見的尺寸、公差、註記、文字或符號。
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無需任何手動或外部操作即可見的尺寸、公差、註記、文字或符號。
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無需任何手動或外部操作即可見的尺寸、公差、註記、文字或符號。
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無需任何手動或外部操作即可見的尺寸、公差、註記、文字或符號。
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特徵的可限制自由度,以對稱為基礎。
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特徵的可限制自由度,以對稱為基礎。
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特徵的可限制自由度,以對稱為基礎。
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特徵的可限制自由度,以對稱為基礎。
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特徵的形狀。
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特徵的形狀。
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特徵的形狀。
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特徵的形狀。
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特徵的邊界。
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特徵的邊界。
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特徵的邊界。
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特徵的邊界。
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理論上的精確點、線、平面,或因此衍生自理論基準特徵模擬器的組合。
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選取來定義公差帶的位置或定向或兩者,或表示例如虛擬條件之理想特徵的與一或多個真實完整特徵相關聯之一或多個特徵的一或多個狀況特徵。
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理論上的精確點、線、平面,或因此衍生自理論基準特徵模擬器的組合。
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選取來定義公差帶的位置或定向或兩者,或表示例如虛擬條件之理想特徵的與一或多個真實完整特徵相關聯之一或多個特徵的一或多個狀況特徵。
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理論上的精確點、線、平面,或因此衍生自理論基準特徵模擬器的組合。
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選取來定義公差帶的位置或定向或兩者,或表示例如虛擬條件之理想特徵的與一或多個真實完整特徵相關聯之一或多個特徵的一或多個狀況特徵。
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理論上的精確點、線、平面,或因此衍生自理論基準特徵模擬器的組合。
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選取來定義公差帶的位置或定向或兩者,或表示例如虛擬條件之理想特徵的與一或多個真實完整特徵相關聯之一或多個特徵的一或多個狀況特徵。
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理論上精確的尺寸。
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理論上精確的尺寸。
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理論上精確的尺寸。
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理論上精確的尺寸。
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用來以適當量測單位定義零件或特徵之成型、大小、定向或位置的數值或數學運算式。
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兩個特徵或大小特徵的大小之間的距離。
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用來以適當量測單位定義零件或特徵之成型、大小、定向或位置的數值或數學運算式。
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兩個特徵或大小特徵的大小之間的距離。
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用來以適當量測單位定義零件或特徵之成型、大小、定向或位置的數值或數學運算式。
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兩個特徵或大小特徵的大小之間的距離。
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用來以適當量測單位定義零件或特徵之成型、大小、定向或位置的數值或數學運算式。
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兩個特徵或大小特徵的大小之間的距離。
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用來建立基準的指定點、線或區域。
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基準特徵一部份,名義上可為點、線段或區域。
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用來建立基準的指定點、線或區域。
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基準特徵一部份,名義上可為點、線段或區域。
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用來建立基準的指定點、線或區域。
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基準特徵一部份,名義上可為點、線段或區域。
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用來建立基準的指定點、線或區域。
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基準特徵一部份,名義上可為點、線段或區域。
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用來控制一或多個特徵與從在 RMB 指定的基準特徵建立之基準軸之功能關係的公差。
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用來控制一或多個特徵與從在 RMB 指定的基準特徵建立之基準軸之功能關係的公差。
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用來控制一或多個特徵與從在 RMB 指定的基準特徵建立之基準軸之功能關係的公差。
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用來控制一或多個特徵與從在 RMB 指定的基準特徵建立之基準軸之功能關係的公差。
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用來控制與真實輪廓相對之特徵的成型或大小、成型、定向與位置組合的幾何公差。
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用來控制與線或具有理論上精確幾何成型的曲面相對之特徵的成型或大小、成型、定向與位置組合的幾何公差。
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用來控制與真實輪廓相對之特徵的成型或大小、成型、定向與位置組合的幾何公差。
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用來控制與線或具有理論上精確幾何成型的曲面相對之特徵的成型或大小、成型、定向與位置組合的幾何公差。
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用來控制與真實輪廓相對之特徵的成型或大小、成型、定向與位置組合的幾何公差。
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用來控制與線或具有理論上精確幾何成型的曲面相對之特徵的成型或大小、成型、定向與位置組合的幾何公差。
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用來控制與真實輪廓相對之特徵的成型或大小、成型、定向與位置組合的幾何公差。
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用來控制與線或具有理論上精確幾何成型的曲面相對之特徵的成型或大小、成型、定向與位置組合的幾何公差。
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用受限制的扣件 (例如攻牙孔或螺栓中的螺絲) 固定在一起的二 (或多) 個元件。
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用受限制的扣件 (例如攻牙孔或螺栓中的螺絲) 固定在一起的二 (或多) 個元件。
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用受限制的扣件 (例如攻牙孔或螺栓中的螺絲) 固定在一起的二 (或多) 個元件。
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用受限制的扣件 (例如攻牙孔或螺栓中的螺絲) 固定在一起的二 (或多) 個元件。
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用於在工程圖與 CAD 模型中傳達工件需求的符號語言。
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用於在工程圖與 CAD 模型中傳達工件需求的符號語言。
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用於在工程圖與 CAD 模型中傳達工件需求的符號語言。
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用於在工程圖與 CAD 模型中傳達工件需求的符號語言。
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由多個曲面所組成的特徵。
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由多個曲面所組成的特徵。
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由多個曲面所組成的特徵。
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由多個曲面所組成的特徵。
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由大小特徵之最大材料大小 (MMS) 的總體效果,以及針對相同大小特徵之衍生特徵指定的幾何公差所產生的大小。
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由大小特徵之最大材料大小 (MMS) 的總體效果,以及針對相同大小特徵之衍生特徵指定的幾何公差所產生的大小。
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由大小特徵之最大材料大小 (MMS) 的總體效果,以及針對相同大小特徵之衍生特徵指定的幾何公差所產生的大小。
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由大小特徵之最大材料大小 (MMS) 的總體效果,以及針對相同大小特徵之衍生特徵指定的幾何公差所產生的大小。
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由大小特徵之最小材料大小 (LMS) 的總體效果,以及針對相同大小特徵之衍生特徵指定的幾何公差所產生的大小。
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由大小特徵之最小材料大小 (LMS) 的總體效果,以及針對相同大小特徵之衍生特徵指定的幾何公差所產生的大小。
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由大小特徵之最小材料大小 (LMS) 的總體效果,以及針對相同大小特徵之衍生特徵指定的幾何公差所產生的大小。
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由大小特徵之最小材料大小 (LMS) 的總體效果,以及針對相同大小特徵之衍生特徵指定的幾何公差所產生的大小。
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由存在於特徵材料之上或之內的公差或公差組合定義的限制。
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由存在於特徵材料之上或之內的公差或公差組合定義的限制。
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由存在於特徵材料之上或之內的公差或公差組合定義的限制。
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由存在於特徵材料之上或之內的公差或公差組合定義的限制。
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由存在於特徵材料之上或之外的公差或公差組合定義的限制。
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由存在於特徵材料之上或之外的公差或公差組合定義的限制。
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由存在於特徵材料之上或之外的公差或公差組合定義的限制。
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由存在於特徵材料之上或之外的公差或公差組合定義的限制。
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相對於一或多個基準控制曲面、中間平面或中間線之定向的幾何公差。
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相對於一或多個基準控制曲面、中間平面或中間線之定向的幾何公差。
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相對於一或多個基準控制曲面、中間平面或中間線之定向的幾何公差。
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相對於一或多個基準控制曲面、中間平面或中間線之定向的幾何公差。
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與模型一詞交互搭配使用的常用語言辭彙。'CAD' 是「電腦輔助設計」的縮寫。
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與模型一詞交互搭配使用的常用語言辭彙。'CAD' 是「電腦輔助設計」的縮寫。
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與模型一詞交互搭配使用的常用語言辭彙。'CAD' 是「電腦輔助設計」的縮寫。
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與模型一詞交互搭配使用的常用語言辭彙。'CAD' 是「電腦輔助設計」的縮寫。
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與基準平面或基準軸形成任何指定角度的曲面、特徵中心平面或特徵軸的條件。
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衍生自 3D 模型,且無法直接修改的尺寸。
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衍生自 3D 模型,且無法直接修改的尺寸。
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衍生自 3D 模型,且無法直接修改的尺寸。
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衍生自 3D 模型,且無法直接修改的尺寸。
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表示多曲面特徵一部份的特徵。
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表示多曲面特徵一部份的特徵。
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表示多曲面特徵一部份的特徵。
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表示多曲面特徵一部份的特徵。
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透過圖形或文字表示,或透過兩者的組合,揭露 (直接或透過參照) 項目之實體或功能需求的工程文件或數位資料檔案。
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請參閱 CAD 工程圖
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透過圖形或文字表示,或透過兩者的組合,揭露 (直接或透過參照) 項目之實體或功能需求的工程文件或數位資料檔案。
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請參閱 CAD 工程圖
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透過圖形或文字表示,或透過兩者的組合,揭露 (直接或透過參照) 項目之實體或功能需求的工程文件或數位資料檔案。
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請參閱 CAD 工程圖
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透過圖形或文字表示,或透過兩者的組合,揭露 (直接或透過參照) 項目之實體或功能需求的工程文件或數位資料檔案。
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請參閱 CAD 工程圖
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透過關聯操作從非理想曲面模型或從真實特徵建立的理想特徵 (可從衍生或完整特徵建立)。
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透過關聯操作從非理想曲面模型或從真實特徵建立的理想特徵 (可從衍生或完整特徵建立)。
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透過關聯操作從非理想曲面模型或從真實特徵建立的理想特徵 (可從衍生或完整特徵建立)。
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透過關聯操作從非理想曲面模型或從真實特徵建立的理想特徵 (可從衍生或完整特徵建立)。
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通常位於資料集的註記部份,套用至零件多個特徵的公差。
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未指定個別公差指示時所套用的公差。
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通常位於資料集的註記部份,套用至零件多個特徵的公差。
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未指定個別公差指示時所套用的公差。
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通常位於資料集的註記部份,套用至零件多個特徵的公差。
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未指定個別公差指示時所套用的公差。
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通常位於資料集的註記部份,套用至零件多個特徵的公差。
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未指定個別公差指示時所套用的公差。
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通用
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通用
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通用
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通用
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通用
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適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
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適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
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適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
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適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
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適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
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適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
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適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
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適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
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適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
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適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
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適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
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適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
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遵循公差框中的公差並指示將單一公差帶套用至數個個別特徵的修改符號。
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遵循公差框中的公差並指示將單一公差帶套用至數個個別特徵的修改符號。
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遵循公差框中的公差並指示將單一公差帶套用至數個個別特徵的修改符號。
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遵循公差框中的公差並指示將單一公差帶套用至數個個別特徵的修改符號。
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針對大小特徵,不得違反以最大材料條件完美成型的包絡。
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針對大小特徵,不得違反以最大材料條件完美成型的包絡。
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針對大小特徵,不得違反以最大材料條件完美成型的包絡。
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針對大小特徵,不得違反以最大材料條件完美成型的包絡。
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零件基準特徵與模擬的基準特徵之間允許的移動或鬆弛。
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零件基準特徵與模擬的基準特徵之間允許的移動或鬆弛。
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零件基準特徵與模擬的基準特徵之間允許的移動或鬆弛。
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零件基準特徵與模擬的基準特徵之間允許的移動或鬆弛。
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零件的實體部份,例如曲面、針腳、孔或槽或其在工程圖、模型或數位資料檔案中的表示。
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請參閱幾何特徵
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零件的實體部份,例如曲面、針腳、孔或槽或其在工程圖、模型或數位資料檔案中的表示。
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請參閱幾何特徵
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零件的實體部份,例如曲面、針腳、孔或槽或其在工程圖、模型或數位資料檔案中的表示。
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請參閱幾何特徵
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零件的實體部份,例如曲面、針腳、孔或槽或其在工程圖、模型或數位資料檔案中的表示。
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請參閱幾何特徵
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零件相對於座標系軸進行的平移或旋轉移動。所有零件都有六個自由度,三個是平移的,三個是旋轉的。
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零件相對於座標系軸進行的平移或旋轉移動。所有零件都有六個自由度,三個是平移的,三個是旋轉的。
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零件相對於座標系軸進行的平移或旋轉移動。所有零件都有六個自由度,三個是平移的,三個是旋轉的。
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零件相對於座標系軸進行的平移或旋轉移動。所有零件都有六個自由度,三個是平移的,三個是旋轉的。
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電腦輔助設計 (CAD) 模型在螢幕或紙張上顯示的所選零件。
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電腦輔助設計 (CAD) 模型在螢幕或紙張上顯示的所選零件。
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電腦輔助設計 (CAD) 模型在螢幕或紙張上顯示的所選零件。
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電腦輔助設計 (CAD) 模型在螢幕或紙張上顯示的所選零件。
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顯示在公差框附近並指示僅允許來自平坦之凹偏差的修改符號。
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顯示在公差框附近並指示僅允許來自平坦之凹偏差的修改符號。
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顯示在公差框附近並指示僅允許來自平坦之凹偏差的修改符號。
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顯示在公差框附近並指示僅允許來自平坦之凹偏差的修改符號。
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點、線、曲面、體積塊或這些項目的集合。
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點、線、曲面、體積塊或這些項目的集合。
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點、線、曲面、體積塊或這些項目的集合。
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點、線、曲面、體積塊或這些項目的集合。
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ISO
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相對於一或多個基準控制曲面、中間平面或中間線之定向的幾何公差。
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參照:ISO 1101:2012,18.11 條
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ASME
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ISO
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無需任何手動或外部操作即可見的尺寸、公差、註記、文字或符號。
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無需任何手動或外部操作即可見的尺寸、公差、註記、文字或符號。
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參照:ASME Y14.41-2012,3.1 段
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參照:ISO 10209:2012,9.1 條
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通用
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包含註釋 (例如尺寸或幾何公差) 之 CAD 模型中的圖元。
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參照︰無
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ASME
|
ISO
|
其中所述產品是二或多個項目之組件的模型。
|
其中所述產品是二或多個項目之組件的模型。
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參照:ASME Y14.41,3.3 段
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參照:ISO 10209:2012,9.3 條
|
ISO
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透過關聯操作從非理想曲面模型或從真實特徵建立的理想特徵 (可從衍生或完整特徵建立)。
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參照:ISO 17450-1:2011;3.3.8 條
|
ASME
|
理論上精確的尺寸。
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參照:ASME Y14.5-2009,1.3.23 段
|
ASME
|
在為幾何公差指定 MMC 或 LMC 的情況下,公差中的增加量等於大小特徵違反指定材料條件的量。
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參照:ASME Y14.5-2009,2.8.2 與 2.8.4 段
|
ISO
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電腦輔助設計 (CAD) 模型在螢幕或紙張上顯示的所選零件。
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參照︰ISO 10209:2012,11.23 條 (出自 ISO 13567-1:1998)
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通用
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與模型一詞交互搭配使用的常用語言辭彙。'CAD' 是「電腦輔助設計」的縮寫。
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參照︰無
|
ASME
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ISO
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提供圓形曲面元素控制的幾何公差。公差會獨立套用至每個圓形量測方位,因為零件會繞模擬的基準軸旋轉曲面的完整角度範圍。
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幾何公差,可指定...
• 垂直於基準軸之任何橫截面平面中的萃取線應包含在兩個平面同心圓之間,這兩者的半徑不同,其差距等於指示的公差值
• 其軸與基準軸重合之任何圓柱橫截面中的萃取線應包含在相等大小的兩個圓之間,這兩者由等於指示公差值的距離分隔開來
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參照:ASME Y14.5-2009,9.4.1 段
|
參照:ISO 1101:2012,18.15 條
|
ASME
|
曲面的條件,其中,
• 針對球面以外的特徵,與垂直於軸或骨架 (曲線) 的平面相交之曲面的所有點與該軸或骨架之間都是等距的
• 針對球面,與穿過共用中心的任何平面相交的曲面之所有點與該中心之間都是等距的
|
參照:ASME Y14.5-2009,5.4.3 段
|
ISO
|
幾何公差,可控制要在圓柱公差帶之內,置中於基準軸之特徵的中間線。
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參照:ISO 1101:2012,18.13.2 條
|
ISO
|
在指示 MMR 或 LMR 的情況下,將兩個獨立的需求 (例如,直徑公差與方位公差) 合併為單一需求,可更精確地模擬工件的屬意功能。
|
參照︰ISO 2692:2006
|
ASME
|
ISO
|
從二或多個同時考量的基準特徵建立的基準。
|
從二或多個同時考量的基準特徵建立的基準。
|
參照︰無
|
參照:ISO 5459:2011,3.9 條
|
ISO
|
遵循公差框中的公差並指示將單一公差帶套用至數個個別特徵的修改符號。
|
參照:ISO 1101:2012,8.5 條
|
ASME
|
旋轉曲面上所有直徑相對的中間點 (或二或多個半徑相對特徵之位置對應元素的中間點) 與基準軸 (或中心點) 一致的情況。
|
參照:ASME Y14.5-2009,圖1-37
|
ISO
|
幾何公差,可控制要在任何橫截面上,於圓形公差帶之內,置中於基準軸之特徵的中心點。
|
參照:ISO 1101:2012,18.13.1 條
|
ASME
|
ISO
|
可放大其他同軸孔的圓柱平底孔,通常在需要扣件才能嵌入或低於工件曲面高度時使用。
|
可放大其他同軸孔的圓柱平底孔,通常在需要扣件才能嵌入或低於工件曲面高度時使用。
|
參照:ASME Y14.5-2009,圖1-37
|
參照︰無
|
ASME
|
旋轉曲面中的所有曲面點與共用軸之間都等距的情況。
|
參照:ASME Y14.5-2009,5.4.4
|
ISO
|
指定萃取的圓柱曲面應包含在兩個同軸圓柱之間,且半徑的差異等於所指示公差值的幾何公差。
|
參照:ISO 1101:2012,18.4 條
|
ASME
|
ISO
|
理論上的精確點、線、平面,或因此衍生自理論基準特徵模擬器的組合。
|
選取來定義公差帶的位置或定向或兩者,或表示例如虛擬條件之理想特徵的與一或多個真實完整特徵相關聯之一或多個特徵的一或多個狀況特徵。
|
參照:ASME Y14.5-2009,1.3.13 段
|
參照:ISO 5459:2011,3.4 條
|
ASME
|
ISO
|
從基準特徵建立之基準特徵模擬器的軸。
|
理論上是精確直線的基準。
|
參照:ASME Y14.5-2009,1.3.14 段
|
參照:ISO 5459:2011,3.4 條
|
ASME
|
ISO
|
以基準特徵符號或基準目標符號識別的特徵。
|
用於建立基準的真實 (非理想) 完整特徵
|
參照:ASME Y14.5-2009,1.3.16 段
|
參照:ISO 5459:2011,3.2 條
|
ISO
|
零件基準特徵與模擬的基準特徵之間允許的移動或鬆弛。
|
參照︰無
|
ASME
|
基準特徵距離基準特徵模擬器所建立邊界之間的允許轉移/位移。
|
參照:ASME Y14.5-2009,4.11.9 段
|
ASME
|
有兩種類型的基準特徵模擬器︰
• 理論︰用來從指定基準特徵建立基準之理論上完美的邊界。
• 實際︰用來從指定基準特徵建立模擬基準的實體邊界。
|
參照:ASME Y14.5-2009,1.3.17 段
|
ASME
|
ISO
|
從基準特徵建立之基準特徵模擬器的平面
|
理論上是精確平面的基準。
|
參照︰無
|
參照:ISO 5459:2011,3.4 條
|
ASME
|
ISO
|
一組三個互相垂直的平面,其構成了尺寸和公差的參照框架。
|
這是一個 ASME 辭彙,與 ISO 的詞彙「基準系統」類似。此 ASME 辭彙會在整個 GD&T Advisor 應用程式與文件集中使用,但在 ISO GPS 的上下文中使用時,是指基準系統。
請參閱基準系統。
|
參照:ASME Y14.5-2009,4.7 段
|
參照:ISO 5459:2011,3.10 條
|
ISO
|
從二或多個基準特徵中以特定順序建立的一組二或多個狀況特徵。
|
參照:ISO 5459:2011,3.10 條
|
ASME
|
ISO
|
用來建立基準的指定點、線或區域。
|
基準特徵一部份,名義上可為點、線段或區域。
|
參照:ASME Y14.5-2009,4.24.2 段
|
參照:ISO 5459:2011,3.11 條
|
通用
|
零件相對於座標系軸進行的平移或旋轉移動。所有零件都有六個自由度,三個是平移的,三個是旋轉的。
|
參照︰無
|
通用
|
特徵的可限制自由度,以對稱為基礎。
|
參照︰無
|
ASME
|
ISO
|
包含模型幾何與輔助幾何之資料集的部份。
|
包含模型與輔助幾何之資料集的部份。
|
參照:ASME Y14.41-2012,3.12 段
|
參照:ISO 10209:2012,9.8 條
|
ASME
|
ISO
|
用來以適當量測單位定義零件或特徵之成型、大小、定向或位置的數值或數學運算式。
|
兩個特徵或大小特徵的大小之間的距離。
|
參照:ASME Y14.5-2009,1.3.22 段
|
參照︰ISO 10209:2012,4.6 條 (出自 ISO 129-1:2004)
|
ASME
|
指定給零件,以便可從模型或壓鑄模中撤除的錐度。
|
參照:ASME Y14.8-2009,1.8.5 段
|
ISO
|
新增至陣列或模具幾何特徵的角度,用來確保能夠從模具中輕鬆移除陣列或鑄模零件,或改善產品品質。
|
參照:ISO 8062-1:2007
|
ASME
|
ISO
|
透過圖形或文字表示,或透過兩者的組合,揭露 (直接或透過參照) 項目之實體或功能需求的工程文件或數位資料檔案。
|
請參閱 CAD 工程圖
|
參照:ASME Y14.100-2004,3 段
|
通用
|
衍生自 3D 模型,且無法直接修改的尺寸。
|
參照︰無
|
通用
|
修改時,會導致 CAD 幾何變更的尺寸。
|
參照︰無
|
ISO
|
針對大小特徵,不得違反以最大材料條件完美成型的包絡。
|
參照︰無
|
ISO
|
定義一組有限數目的點的幾何特徵 (適用於完整或衍生的特徵)。
|
參照:ISO 17450-1:2011;3.3.7 條
|
ASME
|
ISO
|
零件的實體部份,例如曲面、針腳、孔或槽或其在工程圖、模型或數位資料檔案中的表示。
|
請參閱幾何特徵
|
參照:ASME Y14.5-2009,1.3.27 段
|
ASME
|
分割為包含幾何特性符號的隔艙,且後面加上公差值或描述、修改因子,以及任何適用基準特徵參照的矩形。
|
參照:ASME Y14.5-2009,3.4.1 段
|
通用
|
特徵的邊界。
|
參照︰無
|
ASME
|
ISO
|
一個圓柱或球面曲面、圓形元素,或一組兩個的相對平行元素或相對平行曲面,每一個都直接與公差尺寸相關聯。
|
由本身是大小之線性或角度尺寸定義的幾何形狀。
|
參照:ASME Y14.5-2009,1.3.32.1 段
|
參照︰ISO 10209:2012,4.7 條 (出自 ISO 129-1:2004)
|
ASME
|
用受限制的扣件 (例如攻牙孔或螺栓中的螺絲) 固定在一起的二 (或多) 個元件。
|
參照:ASME Y14.5-2009,B.4 段
|
ASME
|
曲面或衍生中間平面在一個平面中具有所有元素的情況。
|
參照:ASME Y14.5-2009,5.4.2 段
|
ASME
|
ISO
|
指定由兩個平行平面定義之公差帶的幾何公差,曲面或衍生的中間平面位於其中。
|
指定特徵的萃取 (實際) 曲面應包含在由所指示公差值分隔開來之兩個平行平面之間的幾何公差。
|
參照:ASME Y14.5-2009,5.4.2 段
|
參照:ISO 1101:2012,18.2 條
|
通用
|
特徵的形狀。
|
參照︰無
|
ASME
|
ISO
|
控制特徵之成型 (例如直線度、平坦度、真圓度與圓柱度) 的幾何公差。
|
僅控制特徵之成型偏差的幾何公差。
|
參照:ASME Y14.5-2009,5.2 段
|
參照:ISO 1101:2012,15 條
|
ASME
|
沒有施力之零件的條件。
|
參照:ASME Y14.5-2009,1.3.35 段
|
ISO
|
僅受限於重力之零件的條件。
|
參照︰ISO 10579:2010
|
ASME
|
ISO
|
通常位於資料集的註記部份,套用至零件多個特徵的公差。
|
未指定個別公差指示時所套用的公差。
|
參照:ASME Y14.100-2004,4.26.6 段
|
參照:ISO 2768-1,2:1989
|
ASME
|
ISO
|
指示幾何特性的符號方法;可用來指定幾何公差的控制類型。
|
代表幾何特性的符號。
|
參照:ASME Y14.5-2009,3.3.1 段
|
參照:ISO 1101:2012
|
通用
|
定義及傳達工程公差的系統。它會在工程圖與 CAD 模型中使用符號語言來明確描述公稱幾何及其允許的變體。
|
參照︰無
|
ISO
|
點、線、曲面、體積塊或這些項目的集合。
|
參照:ISO 17450-1:2011;3.3 條
|
ISO
|
用於在工程圖與 CAD 模型中傳達工件需求的符號語言。
|
參照︰無
|
ASME
|
適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
|
參照:ASME Y14.5-2009,1.3.62 段
|
ISO
|
適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
|
參照︰無
|
ISO
|
適用於用來控制大小、成型、輪廓、定向、位置與偏移度之公差類別的一般辭彙。
|
參照︰無
|
ISO
|
屬於工件真實曲面或模型曲面的幾何特徵。
|
參照:ISO 17450-1:2011;3.3.5 條
|
ISO
|
在線性大小上由 ISO 公差編碼系統的轉軸與孔公差構成的配合系統。
|
參照:ISO 286-1:210,3.4.1 條
|
ISO
|
由存在於特徵材料之上或之內的公差或公差組合定義的限制。
|
參照︰ASME Y14.5-2009,1.3.3
|
ASME
|
ISO
|
大小特徵包含在聲明大小限制 (例如最大孔直徑、最小轉軸直徑) 之內的最小材料量的條件。
|
所考慮萃取特徵的狀態,其中大小特徵是特徵材料在任何位置都處於其最小狀況的大小限制,例如最大孔直徑與最小轉軸直徑。
|
參照:ASME Y14.5-2009,1.3.38 段
|
參照:ISO 2692,3.6 條
|
ISO
|
大小特徵的需求,會以等於 LMVS 的指定本質特性 (尺寸) 值定義相同類型與完美成型的幾何特徵,其會限制材料內部的非理想特徵。
|
參照:ISO 2692,3.13 條
|
ISO
|
定義特徵最小材料條件的尺寸。
|
參照:ISO 2692,3.7 條
|
ISO
|
由大小特徵之最小材料大小 (LMS) 的總體效果,以及針對相同大小特徵之衍生特徵指定的幾何公差所產生的大小。
|
參照:ISO 2692,3.10 條
|
ASME
|
指定最大與最小大小。
|
參照:ASME Y14.5-2009,1.3.55 段
|
ASME
|
控制相對於另一個特徵或基準參照框架之特徵位置的幾何公差。
|
參照:ASME Y14.5-2009,7.1 段
|
ASME
|
指示要模擬基準特徵之所在材料邊界的符號。
|
參照︰無
|
ASME
|
指相對於特徵大小限制 (例如,RFS、MMC 或 LMC) 的特徵大小。
|
參照︰無
|
ASME
|
由存在於特徵材料之上或之外的公差或公差組合定義的限制。
|
參照:ASME Y14.5-2009,1.3.4 段
|
ASME
|
ISO
|
大小特徵包含在聲明大小限制 (例如最小孔直徑、最大轉軸直徑) 之內的最大材料量的條件。
|
所考慮萃取特徵的狀態,其中大小特徵是特徵材料在任何位置都處於其最大狀況的大小限制,例如最小孔直徑與最大轉軸直徑。
|
參照:ASME Y14.5-2009,1.3.39 段
|
參照:ISO 2692,3.4 條
|
ISO
|
大小特徵的需求,會以等於 MMVS 的指定本質特性 (尺寸) 值定義相同類型與完美成型的幾何特徵,其會限制材料內部的非理想特徵。
|
參照:ISO 2692,3.12 條
|
ISO
|
定義特徵最大材料條件的尺寸。
|
參照:ISO 2692,3.5 條
|
ISO
|
由大小特徵之最大材料大小 (MMS) 的總體效果,以及針對相同大小特徵之衍生特徵指定的幾何公差所產生的大小。
|
參照:ISO 2692,3.10 條
|
ASME
|
ISO
|
描述產品之設計模型、註釋與屬性的組合。
|
描述產品之設計模型、註釋與屬性的組合。
|
參照:ASME Y14.41-2012,3.21 段
|
參照 10209:2012,9.16.1 條 (出自 ISO 16792:2006)
|
通用
|
由多個曲面所組成的特徵。
|
參照︰無
|
通用
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尺寸的聲明值。
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參照︰無
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ISO
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顯示在公差框附近並指示僅允許來自平坦之凹偏差的修改符號。
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參照:ISO 1101:2012,6.3 條
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ASME
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ISO
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具有某些彈性,且會在指定限制之下套用其某些尺寸與公差 (如註記所指示) 的零件。
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會變形至在自由狀態下超出指定尺寸與/或幾何公差之程度的零件。
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參照︰無
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參照︰ISO 10579:2010
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通用
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在特徵控制框架中參照基準特徵的順序 (例如,主要、附屬、第三級)。
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參照︰無
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ASME
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ISO
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控制角度關係的幾何公差。
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控制特徵之定向與成型偏差的幾何公差。
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參照:ASME Y14.5-2009,6.2 段
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參照:ISO 1101:2012,15 條
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ASME
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曲面或特徵中心平面的條件,所有點與基準平面之間皆等距;或特徵軸的條件,沿其長度,與一或多個基準平面或基準軸之間皆等距。
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參照:ASME Y14.5-2009,6.3.1 段
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ISO
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指定萃取 (實際) 曲面、線、中間線或中間平面皆應包含在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (平行於基準軸或基準平面) 之間的幾何公差。
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參照:ISO 1101:2012,18.9 條
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通用
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CAD 系統中的變數。
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參照︰無
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通用
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定義 CAD 特徵之大小、定向或位置的尺寸。
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參照︰無
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ASME
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一個項目,或連接在一起的二或多個項目,通常不受限於無破壞或損傷設計使用的拆解。
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參照:ASME Y14.100-2004,3 段
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ISO
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所述產品為單一項目的模型。
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參照︰ISO 10209:2012 (出自 ISO 29845:2011)
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ASME
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ISO
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套用位置幾何公差且依下列其中一種方法編組的二或多個特徵或大小特徵:nX、n 同軸孔、遍及、A↔B、n 曲面、同步條件或已指示。
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套用位置幾何公差且依例如 nx 之類的標記法編組的二或多個特徵或大小特徵。
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參照:ASME Y14.5-2009,1.3.42 段
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參照︰無
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ASME
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曲面、特徵的中心平面或特徵在與基準平面或基準軸之間成直角的軸的條件。
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參照:ASME Y14.5-2009,6.3.1 段
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ISO
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指定萃取特徵應包含在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (垂直於基準軸或基準平面) 之間的幾何公差。
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參照:ISO 1101:2012,18.10 條
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ASME
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ISO
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定義區域內大小特徵的中心、軸或中心平面允許與真實 (理論上精確) 的方位不同,或在 MMC 或 LMC 的基礎上指定的情況下,曲面或所考慮大小特徵之曲面不得違反位於真實方位之邊界的幾何公差。
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指定特徵的萃取中心點、中間線、中間平面或曲面皆應包含在理論精確位置中之指定區域內的幾何公差。
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參照:ASME Y14.5-2009,7.2 段
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參照:ISO 1101:2012,18.12 條
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通用
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模型的主要基準參照框架。它通常會在組件中定向及定位模型。
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參照︰無
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ASME
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曲面的輪廓,由一或多個特徵,或一或多個特徵的二維元素構成的形狀。
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參照:ASME Y14.5-2009,8.2 段
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ISO
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指定在每個截面中,萃取的輪廓應包含在等於指示公差之直徑的等距直線包絡圓之間,其中心位於具有理論上精確幾何成型的線上。
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參照:ISO 1101:2012,18.5 條
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ISO
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指定萃取的曲面應包含在等於指示公差之直徑的等距包絡球面之間,其中心位於具有理論上精確幾何成型的曲面上。
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參照:ISO 1101:2012,18.7 條
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ASME
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定義在相對於真實輪廓的特徵的每個線元素上之二維公差帶的幾何公差。
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參照:ASME Y14.5-2009,8.2.1.2 段
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ASME
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定義沿與真實輪廓相對之特徵的長度與寬度 (或圓周) 延伸之三維公差帶的幾何公差。
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參照:ASME Y14.5-2009,8.2.1.1 段
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ASME
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ISO
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用來控制與真實輪廓相對之特徵的成型或大小、成型、定向與位置組合的幾何公差。
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用來控制與線或具有理論上精確幾何成型的曲面相對之特徵的成型或大小、成型、定向與位置組合的幾何公差。
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參照:ASME Y14.5-2009,8.2 段
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參照︰無
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ASME
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ISO
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投影到設計模型曲面之上的公差帶。
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置於公差特徵範圍之外的公差帶。
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參照:ASME Y14.5-2009,7.4.1 段
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參照:ISO 1101:2012;13 條
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ISO
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作為最大材料需求 (MMR) 或最小材料需求 (LMR) 的額外增加項目之大小特徵的其他需求,可指示大小公差依幾何公差與實際幾何偏差之間的差增加。
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參照:ISO 2692:2006,3.14 條
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ISO
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指示基準特徵模擬器從 MMB 前進到 LMB,直到其與特徵的極限達到最大接觸為止。
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參照:ASME Y14.5-2009,1.3.49 段
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ASME
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ISO
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指示幾何特徵會在大小特徵之實際貼合包絡的任何大小增量時套用。
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大小特徵的大小尺寸與幾何公差獨立套用的情況。
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參照:ASME Y14.5-2009,1.3.48 段
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參照︰無
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ASME
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ISO
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施力到零件上以模擬導致零件從其自由狀態情況扭曲之可能狀況的組件或功能條件。
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於量測期間施於工件,可能導致幾何扭曲的力。
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參照:ASME Y14.5-2009,1.3.50 段
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參照︰ISO 10579:2010
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ISO
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指定在任何橫截面中萃取的圓周線皆應包含在兩個半徑不同之共面同心圓之間,且半徑的差異等於所指示公差值的幾何公差。
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參照:ISO 1101:2012,18.3 條
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ASME
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個別一般大小特徵的成型受其大小限制控制。
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參照:ASME Y14.5-2009,2.7.1 段
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ASME
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在個別公差方面,適用 RFS,而在個別基準特徵參照方面,適用 RMB,其皆未指定修改符號。
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參照:ASME Y14.5-2009,2.8 段
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ASME
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用來控制一或多個特徵與從在 RMB 指定的基準特徵建立之基準軸之功能關係的公差。
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參照:ASME Y14.5-2009,9.2 段
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ASME
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不會視為同時條件集一部份的幾何公差。
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參照:ASME Y14.5-2009,4.19 段
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ASME
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二或多個幾何公差套用為單一陣列或零件條件的情況。同時條件會套用至參照相同基準參照框的方位或輪廓公差。
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參照:ASME Y14.5-2009,4.19 段
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ISO
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可從中定義特徵之位置與定向或兩者的點、線、平面或螺旋。
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參照:ISO 17450-1:2011;3.3.1.1.3 條
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ASME
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ISO
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屬於大小特徵的兩個相對曲面、線元素或點之間的尺寸。
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屬於大小特徵的兩個相對曲面、線元素或點之間的尺寸。
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參照︰無
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參照︰無
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ASME
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根據合理統計資料 (例如組件公差等於個別公差平方總和的平方根) 將公差指派給組件的相關元件。
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參照:ASME Y14.5-2009,2.17 段
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ASME
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曲面的元素,或衍生的中間線是直線的情況。
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參照:ASME Y14.5-2009,5.4.1 段
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ISO
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指定以下情況的幾何公差...
• 任何萃取直線皆應包含在由指定公差值分隔開來的兩條平行直線之間
• 圓柱曲面的萃取中間線應包含在直徑等於指定公差值的圓柱區域之內
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通用
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表示多曲面特徵一部份的特徵。
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參照︰無
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ASME
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二或多個特徵曲面的所有位置相對或對應元素的中間點都與基準軸或中心平面一致的情況。
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參照:ASME Y14.5-2009,7.7.2 段
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ISO
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指定萃取中間曲面應限制在由指定公差值分隔開來的兩個平行平面 (繞基準平面對稱存在) 之間的幾何公差。
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參照:ISO 1101:2012,18.14 條
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ASME
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指示幾何公差僅會套用至公差曲面之相切平面的符號。
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參照:ASME Y14.5-2009,6.5 段
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ISO
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指示理論上精確之位置、定向或輪廓的尺寸。
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參照:ISO 1101:2012,11 條
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ASME
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ISO
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指定尺寸的總量允許改變。公差是最大與最小限制之間的差異。
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指定尺寸的總量允許改變。
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參照:ASME Y14.5-2009,1.3.60 段
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參照︰無
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通用
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決定產品需求中公差累積效果的計算。
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參照︰無
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ISO
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分成二或多個隔艙的矩形框,這些隔艙中包含幾何特性符號、具有選用修改因子的公差值,以及基準指示 (如有需要)。
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參照:ISO 1101:2012
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通用
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代表允許特徵與指定尺寸相差之總量的面積或體積。
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參照︰無
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ASME
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ISO
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對所有曲面元素提供控制的幾何公差。當零件繞基準軸旋轉時,公差會同時套用至所有圓與輪廓量測方位。
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指定萃取曲面應包含在以下項目之間的幾何公差 …
• 半徑的差異等於指示公差值且其軸與基準軸重合的兩個同軸圓柱體。
• 由等於指示公差值的距離分隔開來且與基準軸垂直的兩個平行平面。
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參照:ASME Y14.5-2009,9.4.2 段
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參照:ISO 1101:2012,18.16 條
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ASME
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在特徵控制框中跟在基準特徵參照之後的 ▷ 符號,表示基準特徵模擬器的基本位置已經解除鎖定,且基準特徵模擬器能夠在指定幾何公差之內平移,以完全接觸特徵。
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參照:ASME 15.5,4.11.10 段
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ASME
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指示單邊或不平均處理之輪廓公差的符號。
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參照:ASME Y14.5-2009,3.3.22 段
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ISO
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實體 (真實) 零件。
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參照︰無
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