Bezugskonstruktionselemente
Mit Bezugskonstruktionselementen wie
Bezugspunkten, -kurven, -flächen und -achsen können Sie zahlreiche Effekte simulieren und eine Reihe verschiedener Typen von Modellierungsobjekten anwenden. So benötigen Sie z.B. Bezugspunkte zur Erzeugung von Objekten wie Punktlasten, lokalen Messgrößen, Netzsteuerungselementen und bestimmten Idealisierungen (beispielsweise Federn, Massen und Punktnähte). Mit Bezugskurven und -flächen können Sie Flächen- und Volumenbereiche zur Isolierung von Lasten und Randbedingungen, zum Hinzufügen von Lasten und Randbedingungen zu
freien Abschnitten von zusammengeführten Flächen usw. erzeugen.
Die Bezugs-KEs für Ihr Teil können Sie wahlweise in Creo Parametric oder in Creo Simulate erzeugen. Je nachdem, wo diese KEs erzeugt werden, verhalten sie sich unterschiedlich:
• Creo Parametric – Wenn Sie die Bezugskonstruktionselemente in Creo Parametric erzeugen, sind sie sowohl in Creo Parametric als auch in Creo Simulate im Bauteil sichtbar. Sie können zudem in Creo Parametric Techniken zum Erzeugen von Teilen verwenden, die beim Erzeugen von Bezugsgeometrie in Creo Simulate nicht zur Verfügung stehen, wie z.B. Mustererstellung oder Spiegeln.
Sie werden jedoch feststellen, dass beim Hinzufügen dieser KEs in Creo Parametric das Bauteil unübersichtlich wird, was sich bei seiner Verwendung für andere Zwecke, z.B. für die Fertigung oder Dokumentation, nachteilig auswirkt. In diesem Fall sollten Sie die Bezugs-KEs stattdessen in Creo Simulate erzeugen, da sie dann später in Creo Parametric nicht mehr sichtbar sind.
• Creo Simulate – In
Creo Simulate erzeugte Simulations-KEs werden als
Simulations-KEs bezeichnet. Simulations-KEs können in einer
Creo Simulate Sitzung jederzeit erzeugt werden – vor dem Hinzufügen von Modellierungsobjekten oder während ihrer Definition. Simulations-KEs stehen Ihnen nur während
Creo Simulate Sitzungen zur Verfügung, außer Sie nehmen eine
Erhöhung dieser KEs vor. Jedes Mal, wenn Sie nach
Creo Parametric zurückkehren, werden diese KEs ausgeblendet.