關於 Creo Flexible Modeling 中的陣列使用者介面
Creo Flexible Modeling 中的「陣列」(Pattern) 標籤由指令、標籤及捷徑功能表組成。按一下 
「彈性陣列」(Flexible Pattern) 可開啟「陣列」(Pattern) 標籤。
「彈性陣列」(Flexible Pattern) 可開啟「陣列」(Pattern) 標籤。指令
從「類型」(Type) 清單中選取其中一個陣列類型。
• 
「方向」(Direction)
「方向」(Direction)◦ 設定
▪ 「第一方向」(1st direction)
▪ 方向方法：
▪ 
- 使用平移建立陣列。
- 使用平移建立陣列。▪ 
- 使用旋轉建立陣列。
- 使用旋轉建立陣列。▪ 
- 使用從座標系的位移建立陣列。
- 使用從座標系的位移建立陣列。▪ 「第一方向參照」(First direction reference) 收集器 - 收集第一方向的方向參照。
▪ 
- 反向第一方向。
- 反向第一方向。▪ 「成員」(Members) 方塊 - 設定第一方向的陣列成員數。
▪ 間距
▪ 「間距」(Spacing) 方塊 - 在選取 或 的情況下，定義第一方向陣列成員之間的間距。
或 的情況下，定義第一方向陣列成員之間的間距。▪ X、Y 與 Z - 在選取 的情況下，設定距離每個座標系軸的位移。
的情況下，設定距離每個座標系軸的位移。▪ 「第二方向」(2nd direction) - 定義第二方向。包含與第一方向相同的選項。
• 
「軸」(Axis)
「軸」(Axis)◦ 參照
▪ 「軸」(Axis) 收集器 - 收集要作為陣列中心的軸。
▪ - 反向陣列的角度方向。
- 反向陣列的角度方向。◦ 設定
▪ 「第一方向成員」(1st direction members) - 設定第一方向包括陣列導引件在內的陣列成員數。
▪ 「成員間夾角」(Angle between members) - 設定第一方向各陣列成員之間的角度增量。
▪ 
「角度範圍」(Angular extent) - 設定陣列的角度範圍，進而在此角度內相等地間隔陣列成員。
「角度範圍」(Angular extent) - 設定陣列的角度範圍，進而在此角度內相等地間隔陣列成員。▪ 「第二方向成員」(2nd direction members) - 設定第二方向的陣列成員數。
▪ 「徑向距離」(Radial distance) 方塊 - 設定第二方向各陣列成員之間的徑向距離。
• 
「填充」(Fill)
「填充」(Fill)◦ 「填充區域/格點」(Fill Region/Grid)
▪ 
「草繪」(Sketch) 收集器 - 收集定義要填充之區域的草繪。
「草繪」(Sketch) 收集器 - 收集定義要填充之區域的草繪。▪ 「格點陣列」(Grid pattern)
▪ 
- 方形
- 方形▪ 
- 菱形
- 菱形▪ 
- 六角形
- 六角形▪ 
- 同心圓
- 同心圓▪ 
- 螺旋
- 螺旋▪ 
- 沿著草繪曲線。
- 沿著草繪曲線。◦ 間距
▪ 
「間距」(Spacing) - 設定陣列成員中心之間的間距。
「間距」(Spacing) - 設定陣列成員中心之間的間距。▪ 
「邊界」(Border) - 設定陣列成員中心與草繪邊界間的最小距離。負值允許中心位於草繪之外。
「邊界」(Border) - 設定陣列成員中心與草繪邊界間的最小距離。負值允許中心位於草繪之外。▪ 「旋轉」(Rotation) - 設定格點繞原點的旋轉。
「旋轉」(Rotation) - 設定格點繞原點的旋轉。▪ 
「半徑」(Radius) - 設定圓形與螺旋格點的徑向間距。
「半徑」(Radius) - 設定圓形與螺旋格點的徑向間距。• 
「表格」(Table)
「表格」(Table)◦ 設定
▪ 「尺寸」(Dimension) 收集器 - 收集要包括在陣列表中的尺寸。
▪ 「使用中表格」(Active table) - 顯示驅動陣列的使用中表格。
▪ 「編輯」(Edit) - 開啟表格編輯器視窗以編輯使用中表格。
• 
「曲線」(Curve)
「曲線」(Curve)◦ 參照
▪ 「草繪」(Sketch) 收集器 - 收集定義陣列形狀的草繪。僅能包含一個草繪。
「草繪」(Sketch) 收集器 - 收集定義陣列形狀的草繪。僅能包含一個草繪。◦ 「成員依據」(Members by)
▪ 
「間距」(Spacing) - 設定沿曲線之陣列成員中心間的距離。
「間距」(Spacing) - 設定沿曲線之陣列成員中心間的距離。▪ 距離方塊
▪ 
「成員數」(Number of Members) - 設定沿曲線的陣列成員數。
「成員數」(Number of Members) - 設定沿曲線的陣列成員數。▪ 成員數方塊
• 
「點」(Point)
「點」(Point)◦ 設定
▪ 「來自草繪」(From Sketch) - 使用內部或外部草繪中的點。
「來自草繪」(From Sketch) - 使用內部或外部草繪中的點。▪ 
「來自基準點」(From Datum Point) - 使用基準點特徵、匯入特徵或分析特徵中的點。
「來自基準點」(From Datum Point) - 使用基準點特徵、匯入特徵或分析特徵中的點。▪ 「參照」(Reference) 收集器 - 顯示定義陣列成員位置的草繪、草繪特徵或點特徵。
▪ 「使用替代原點」(Use alternate origin) 收集器 - 收集用於將陣列成員與導引件對齊的原點，該原點不同於預設原點。預設原點位於陣列導引件幾何周圍假想邊界外框的中心。
標籤
• 「表格尺寸」(Table Dimensions)
僅適用於表陣列。
◦ 「尺寸」(Dimensions) 收集器 - 顯示要包含在陣列表中的尺寸。
• 「參照」(References)
◦ 「導引曲面」(Leader surfaces) - 顯示單一主體或單一面組中用來定義陣列導引件的的曲面。
▪ 詳細資訊 (Details) - 開啟「曲面集合」(Surface Sets) 對話方塊。
◦ 「轉換所選的附件倒圓角/倒角」(Transform selected attachment rounds/chamfers) 核取方塊 - 陣列化將陣列化幾何附加至模型的所選倒圓角與倒角。如果未核取，會移除並選擇性重新建立選取的附加倒圓角與倒角。
◦ 「導引曲線與基準」(Leader curves and datums)
- 顯示定義陣列導引件的曲線與基準。
◦ 「基準點」(Datum point) - 顯示定義陣列導引件的基準點。
◦ 「草繪」(Sketch) 收集器 - 顯示特徵的草繪參照。
▪ 「定義」(Define) - 開啟「草繪器」以定義內部草繪。
▪ 「編輯」(Edit) - 開啟「草繪器」以編輯草繪。
• 「表格」(Tables)
僅適用於表陣列。
◦ 「表格」(Table) 清單 - 每行含一個表格索引條目 (以 1 開頭) 及關聯的表格名稱。您可以鍵入新名稱來變更表格名稱。若您在收集器中的表格索引條目上按一下滑鼠右鍵，包含下列指令的捷徑功能表將會出現：
▪ 「新增」(Add) - 編輯陣列的其他表格。當您退出編輯器時，新表格即會新增至收集器清單的下方。
▪ 「移除」(Remove) - 從收集器移除所選之表格。
▪ 「套用」(Apply) - 啟動選定表格。啟動表格即是驅動陣列的表格。
▪ 「編輯」(Edit) - 編輯選定表格。編輯表格時，您可以使用「檔案」(File) 下的適當選項，將表格儲存到 .ptb 檔案中，或是讀入先前儲存的 .ptb 檔案。完成編輯表格時，請按一下 > 。此表格即會儲存在陣列中。
▪ 「讀取」(Read) - 讀入儲存的陣列表 (.ptb 檔案)。
▪ 「寫入」(Write) - 儲存所選的陣列表。此表格會儲存在目前工作目錄的檔案中，檔名為 <TableName.ptb>，其中 <TableName> 是陣列表的名稱。
• 「選項」(Options)
根據所選的陣列類型，此標籤是前後關聯感應式標籤。
◦ 「跟隨軸旋轉」(Follow axis rotation) 核取方塊 - 旋轉位於旋轉平面內的陣列成員，以跟隨軸旋轉。適用於軸陣列。
◦ 「使用替代原點」(Use alternate origin) - 可使用與導引特徵或幾何之預設幾何中心不同的原點來放置陣列導引件。可用於「填充」、「曲線」與「點」陣列。
▪ 「使用替代原點」(Use alternate origin) 收集器 - 顯示替代原點。
◦ 「追隨導線方向」(Follow leader location) 核取方塊 - 使用與陣列導線位移相同的距離從草繪平面位移所有陣列成員。可用於以草繪為基礎的填充陣列與點陣列。
◦ 「跟隨曲面形狀」(Follow surface shape) 核取方塊 - 放置陣列成員以跟隨所選曲面的形狀。
▪ 「跟隨曲面形狀」(Follow surface shape) 收集器 - 顯示要跟隨之陣列的曲面。
▪ 「追隨曲面方向」(Follow surface direction) 核取方塊 - 定向陣列成員以跟隨曲面方向。
▪ 「間距」(Spacing) - 設定陣列成員之間的間距。
▪ 「如所投影」(As projected) - 將陣列導引件與陣列成員直接投影到曲面上。
▪ 「對應至曲面空間」(Map to Surface Space) - 將陣列導引件直接投影到曲面上。會將剩餘陣列成員從草繪平面對應至曲面空間，以使曲面上的間距與草繪中的間距相符。
▪ 「對應至曲面 UV 空間」(Map to Surface UV Space) - 將陣列導引件直接投影到曲面上。可根據相對於草繪平面中第一個成員的剩餘陣列成員的 xy 座標來將它們從草繪對應至曲面的 uv 空間。
▪ 「跟隨軸旋轉」(Follow axis rotation) 核取方塊 - 圍繞軸定向陣列成員。適用於軸陣列。
▪ 「追隨曲線方向」(Follow curve direction) 核取方塊 - 定向草繪平面內的陣列成員，以追隨曲線。可用於以草繪為基礎的曲線陣列與點陣列。
▪ 「追隨範本旋轉」(Follow template rotation) 核取方塊 - 沿陣列格點範本定向陣列成員。可在填充陣列中用於 圓形與 螺旋格點範本。
圓形與 螺旋格點範本。• 「附件」(Attachment)
◦ 「附加陣列成員」(Attach pattern members) 核取方塊 - 將所有陣列成員附加至模型幾何。
◦ 「建立倒圓角/倒角」(Create rounds/chamfers) 核取方塊 - 將所有陣列成員附加至具有與陣列導引件類型及尺寸相同之倒圓角或倒角的模型幾何。
• 「內容」(Properties)
◦ 「名稱」(Name) 方塊 - 設定特徵的名稱。
◦ 
- 在瀏覽器中顯示詳細元件資訊。
- 在瀏覽器中顯示詳細元件資訊。捷徑功能表
以滑鼠右鍵按一下圖形視窗可存取捷徑功能表指令。
• 「方向 1 參照」(Direction 1 Reference) - 啟動「第一方向」(1st direction) 參照收集器來顯示第一方向的方向參照。
• 「方向 2 參照」(Direction 2 Reference) - 啟動「第二方向」(2nd direction) 參照收集器來顯示第二方向的方向參照。
• 「軸參照」(Axis Reference) - 啟動「軸」(Axis) 收集器來顯示屬於陣列中心的軸。
• 「填充陣列參照曲面」(Fill Pattern Reference Surface) - 啟動「跟隨曲面形狀」(Follow surface shape) 收集器。
• 「表格陣列尺寸」(Table Pattern Dimensions) - 啟動「表格尺寸」(Table Dimensions) 標籤上的收集器來收集要包括在陣列中的尺寸。
• 「所選草繪」(Selected Sketch) - 啟動 「草繪」(Sketch) 收集器來新增或刪除草繪。
「草繪」(Sketch) 收集器來新增或刪除草繪。• 「陣列導引件曲面」(Pattern leader surfaces) - 啟動「導引曲面」(Leader surfaces) 收集器。
• 「陣列導引件曲線與基準」(Pattern leader curves and datums) - 啟動「導引曲線與基準」(Leader curves and datums) 收集器。
• 「陣列導引件曲面」(Pattern leader surfaces) - 啟動「導引曲面」(Leader surfaces) 收集器。
• 「定義內部草繪」(Define Internal Sketch) - 開啟「草繪」(Sketch) 對話方塊來定義內部草繪。
• 「編輯內部草繪」(Edit Internal Sketch) - 開啟「草繪」(Sketch) 標籤來編輯內部草繪。
• 「轉換所選的附件倒圓角/倒角」(Transform selected attachment rounds/chamfers) - 陣列化將陣列化幾何附加至模型的所選倒圓角與倒角。如果未核取，會移除並選擇性重新建立選取的附加倒圓角與倒角。