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例: オフセット方法による違い
次の図に、「サーフェスに垂直」(Normal to Surface)「制御適合」(Controlled Fit)「自動適合」(Automatic Fit) の各方法によって作成された各種オフセットジオメトリを示します。この例に示す「制御適合」(Controlled Fit) を使用した方法では、座標系を選択し、Y 軸方向の直線移動を制限することによって、オフセットキルトの底部が元のキルトの底部と同一平面上にあるようにしています。使用するオフセットタイプによって、オフセットキルトの曲率半径が異なることに注意してください。
オフセット方法による違い
1. 元のキルト
2. 元のキルトからのオフセット
3. 「サーフェスに垂直」(Normal to Surface) を使用
4. 「制御適合」(Controlled Fit) を使用
5. 「自動適合」(Automatic Fit) を使用
6. 「制御適合」(Controlled Fit) を使用
7. 「サーフェスに垂直」(Normal to Surface) を使用
8. 「自動適合」(Automatic Fit) を使用
オフセット方法を使用する場合の推奨事項:
「サーフェスに垂直」(Normal to Surface) が失敗した場合、「自動適合」(Automatic Fit) を使用します。「自動適合」(Automatic Fit) では、元のサーフェスと同じ外観になるように最適な直線移動方向が自動的に計算されます。ただしこの方法では、サーフェスが常に垂直にオフセットされるとは限りません。「自動適合」(Automatic Fit) によって作成したジオメトリに問題がある場合、「制御適合」(Controlled Fit) を使用して計算時の設定を行います。
「自動適合」(Automatic Fit)「制御適合」(Controlled Fit) は凸状ジオメトリに対してのみ使用することをお勧めします。これらの方法では、ジオメトリのスケールを設定します。凸状ジオメトリ以外では、下図のようにオフセット距離が変化します。
複雑なサーフェス形状のオフセット
1. 元のサーフェス
2. 「自動適合」(Automatic Fit) を使用してオフセットされたサーフェス
3. 「サーフェスに垂直」(Normal to Surface) を使用してオフセットされたサーフェス
「自動適合」(Automatic Fit) または「制御適合」(Controlled Fit) を使用してオフセットを作成する場合、元のキルトとオフセットキルトの間の距離が入力値よりも小さくならないように制御されます。
「制御適合」(Controlled Fit) を使用する場合に選択した座標系の位置によって、キルトのスケール設定が影響を受けます。以下の図では、「制御適合」(Controlled Fit) を使用し、X 軸方向と Y 軸方向の直線移動を制限してオフセットキルトが作成されています。図 a では、CS0 座標系を基準にスケールが設定され、図 b では CS3 座標系を基準にスケールが設定されています。座標系の位置によって同一平面上に留まるエッジが決まることに注意してください。
a. CS0 を使用して作成されたオフセット
1. 元のキルト
2. オフセットキルト
1. 同一平面上の頂点。X 軸方向に直線移動できない。
2. 元のキルト
3. 同一平面上の頂点。Y 軸方向に直線移動できない。
CS0 座標系の基準点を通る平面 (それぞれ YZ 平面と XZ 平面) 上のエッジと頂点は固定されたままとなります。これは、X 軸方向と Y 軸方向には直線移動できないためです。
b. CS3 を使用して作成されたオフセット
1. 同一平面上の頂点。X 軸方向に直線移動できない。
2. 元のキルト
3. 同一平面上の頂点。Y 軸方向に直線移動できない。
CS3 座標系の基準点を通る平面 (それぞれ YZ 平面と XZ 平面) 上のエッジと頂点は固定されたままとなります。これは、X 軸方向と Y 軸方向には直線移動できないためです。