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타이 랩
타이 랩 코스메틱 컴포넌트는 하네스 어셈블리에서 와이어 또는 케이블을 함께 묶는 물리적 파스너(예: 짚 타이 또는 케이블 타이)의 적용을 나타내는 데 사용됩니다.
타이 랩에 대한 표현은 다음과 같습니다.
• 중심선 케이블 디스플레이에서 타이 랩은 해당 너비에 해당하는 선으로 표시됩니다.
• 굵은 케이블 디스플레이에서 타이 랩은 벽 두께에 해당하는 원통으로 나타납니다.
타이 랩 매개 변수는 스풀로 제어됩니다. 전기적 매개 변수(Electrical Parameters) 대화 상자를 사용하여 스풀 레벨 매개 변수를 편집할 수 있습니다.
타이 랩 생성하기
타이 랩을 생성하려면 다음을 수행하십시오.
1. 코스메틱(Cosmetics) 리본 그룹에서 타이 랩(Tie Wrap)을 클릭합니다. 타이 랩(Tie Wrap) 탭이 열립니다.
2. 활성 하네스 어셈블리의 세그먼트 또는 위치 점을 선택합니다. 선택한 세그먼트 또는 위치 점이 배치(Placement) 상자에 표시됩니다.
3. 을 클릭하여 기존 스풀을 선택하거나 을 클릭하여 새 스풀을 생성합니다. 필요한 경우 전기적 매개 변수(Electrical Parameters) 대화 상자에서 스풀 매개 변수 값을 수정합니다. 자세한 내용은 스풀 매개 변수 편집하기를 참조하십시오.
4. 오프셋(Offset) 상자에서 타이 랩을 배치할 선택된 세그먼트의 끝으로부터의 값을 지정합니다. 주황색 점으로 표시되며, 앵커 점으로 사용됩니다.
5. 을 클릭하여 타이 랩을 배치할 선택된 세그먼트를 끝을 대칭 이동합니다.
6. (선택 사항) 멤버(Members) 및 증분(Increment)의 값을 수정하여 선택한 세그먼트를 따라 타이 랩 패턴을 생성합니다. 멤버(Members)는 패턴의 인스턴스 수를 정의하고, 증분(Increment)은 세그먼트 시작 부분에 주황색 점으로 표시되는 앵커 점으로부터 측정한 각 인스턴스 사이의 간격을 지정합니다.
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패턴 생성은 세그먼트를 선택한 경우에만 지원됩니다. 위치 점을 선택하면 여러 타이 랩을 배치할 수 있지만 패턴 그룹을 생성할 수 없습니다.
7. 필요한 경우 표시(Display) 패널에서 표시 너비(Display Width) 및 표시 두께(Display Thickness)의 값을 편집합니다.
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표시 너비(Display Width)는 그래픽 창에서 타이 랩의 시각적 길이를 제어하고, 표시 두께(Display Thickness)는 원통 표현의 벽 두께를 제어합니다. 이러한 값은 시각적 표현에만 영향을 주며 스풀 매개 변수에는 영향을 주지 않습니다.
8. 확인(OK)을 클릭합니다. 타이 랩이 생성됩니다.
패턴화된 타이 랩은 패턴 그룹을 형성합니다. 한 인스턴스를 삭제하거나 억제하면 전체 그룹에 영향을 줍니다. 개별 인스턴스를 수정할 수도 있습니다. 이렇게 하려면 인스턴스를 마우스 오른쪽 버튼으로 클릭하고 치수 편집(Edit Dimensions)을 선택한 다음 원하는 값을 조정합니다. 인스턴스를 패턴 그룹과 일치하도록 다시 재설정하려면 마우스 오른쪽 버튼 클릭 메뉴에서 가변 항목 제거(Remove Varied Item) 명령을 사용합니다.
타이 랩을 편집하거나 업데이트하려면 모델 트리나 그래픽 창에서 타이 랩을 선택하고 마우스 오른쪽 버튼 클릭 메뉴에서 정의 편집(Edit Definition) 명령을 사용합니다.
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