Style libre : amélioration de l'alignement planaire des niveaux de résolution
Creo+
Description
Les données du niveau de résolution sont désormais mieux préservées lorsque vous modifiez une forme à l'aide des commandes Planariser (Planarize), Aligner (Align) ou Dupliquer par symétrie (Mirror).
Auparavant, l'alignement ou la duplication par symétrie du modèle en style libre pouvait entraîner une perte de données, ce qui affectait la reconstruction des formes génératives.
La figure suivante illustre l'alignement planaire dans la version précédente :
La figure suivante illustre l'alignement planaire dans la version actuelle :
Avantages
Cette nouveauté améliore l'expérience de modélisation lorsque vous travaillez avec des niveaux de résolution et des outils tels que Dupliquer par symétrie (Mirror) et Aligner (Align). Elle améliore également la qualité de la reconstruction des formes et préserve mieux votre intention de conception.
Informations supplémentaires
Conseils : | Aucun. |
Limites : | Il n'existe aucune limite connue. |
Cette modification remplace-t-elle une fonctionnalité existante ? | Non. |
Option de configuration associée à cette fonctionnalité : | Aucun. |